當地時間3月17日，美國共和黨眾議員盧比奧（Marco Rubio）和麥考爾（Michael McCaul）以原有針對中國晶圓代工廠商中芯國際的制裁措施存在“許可政策漏洞”為由，再度致信美國商務部長雷蒙多（Gina Raimondo），要求進一步升級對中芯國際的制裁，徹底封鎖其16nm及以下先進制程的制造能力以及DUV（深紫外）設備的獲取。

在這封聯名信中，盧比奧和麥考爾表示，美國嚴肅的出口管制政策應該建立在解除外國對手取代美國經濟、技術和軍事領導地位威脅的基礎上。

美國商務部此前于2020年12月18日，宣布將中芯國際及其部分子公司及參股公司列入“實體清單”。這也使得美國廠商要想供貨中芯國際，必須要取得美國商務部的許可證。同時，美國商務部還要求，對于10nm及以下先進工藝所需的物品都會直接拒絕。

由于在先進制程領域，美國半導體設備廠商占據領導地位，再加上美國一直阻撓荷蘭ASML EUV極紫外光刻機的對華出口，此舉直接使得中芯國際的10nm及以下先進制程的發展陷入停滯。

在此背景之下，中芯國際只能回過頭來發展14nm及成熟制程產能，中芯國際的美國供應商也只能通過向美國商務部申請，獲得許可之后，才能向中芯國際出口10nm以上制程所需的設備及原物料。由于近兩年成熟制程產能持續緊缺漲價，也直接推動了中芯國際業績的增長。

根據中芯國際公布的財報顯示，2021年全年銷售收入為54.431億美元，相比2020年全年（39.07億美元）大幅增長39.32%。2021年全年歸母凈利潤為17.018億美元，相比2020年全年（7.156億美元）暴增137.81%。

在聯名信中，魯比歐和麥考爾表示：“由于未能完全打壓到中芯國際，使得中芯國際在全球整以創紀錄的速度銷售其產品，并帶來了巨額的收入，因此彌補美國商務部對中芯國際的許可政策的漏洞，對于打壓中國科技產業至關重要。”

而盧比奧和麥考爾所說的“漏洞”是指美國商務部“許可政策的漏洞”。該聯名信中還援引美國眾議院外交事務委員會（House Foreign Affairs Committee）發布的針對中芯國際的出口許可數據稱，BIS拒絕向中芯國際出售產品或技術的申請僅有不到1%。

基于此，盧比奧和麥考爾要求美國商務部升級針對中芯國際的制裁規則，以彌補此前的“漏洞”。

具體的要求是修改此前的規則：將允許出口的產品的限定值設定為16nm，并將“唯一需要”替換為“能夠生產”，即要求所有“能夠（被用于）生產”16nm的產品都有拒絕許可政策（此前是僅10nm及以下先進制程生產所需要的物品直接拒絕），所有其他受出口管理條例約束的產品（包括DUV深紫外光刻）都有拒絕許可的推定。

盧比奧和麥考爾要求還再次要求商務部將外國生產的直接產品規則（FDPR）應用于對中芯國際升級制裁當中，即實體清單將涵蓋使用或采用任何美國原產技術制造的任何半導體制造設備。

也就是說，即使美國以外的供應商的產品中源自美國的技術占比小于25%，只要有用到美國的技術，就不能向中芯國際出口，除非獲得美國商務部的許可。這個限制幾乎是等同于美國目前針對華為的制裁政策了。

此外，在目前俄烏沖突的當下，盧比奧和麥考爾還炒作稱：“盡管受到美國的制裁，中芯國際仍可能會將技術轉移到俄羅斯。”以此來強調升級對中芯國際制裁的重要性。

盧比奧和麥考爾要求美國商務部在2022年3月25日前提供針對這些建議討論的最新情況。

值得注意的是，這并不是盧比奧和麥考爾第一次向美國商務部提交聯名信要求升級對中芯國際的制裁。早在2021年3月，盧比奧和麥考爾已就曾向美國商務部長雷蒙多發出聯名信，要求禁止可能支持中芯國際生產半導體的貨物轉讓。并要求拜登政府勸說荷蘭政府阻止ASML出售深紫外線(DUV)光刻機賣給中芯國際。

不過，從美國商務部的后續的動作來看，中芯國際對于DUV光刻機等成熟制程設備的獲取并沒有受到新的阻礙。顯然美國商務部并不認可盧比奧和麥考爾等少數激進的反華議員的意見，畢竟中國大陸市場一直是美國半導體設備廠商的重要市場。

資料顯示，2020年中國大陸進口的半導體設備規模為184億美元，同比增長23.4%，占世界半導體設備營收額的26.7%，也排名全球第一。而在中國大陸市場，中芯國際一直是最大半導體設備采購商，特別是近兩年中芯國際不斷擴建12吋晶圓廠的背景之下。

在限制中芯國際先進制程發展的同時，又能在一定程度上保護美國半導體設備廠商的利益，這也符合美國政府的利益。比如美國在持續對華為升級制程之后，還是向高通發布許可證，允許其向華為供應4G手機芯片等產品。

所以，對于盧比奧和麥考爾此次向美國商務部發出的要求升級對中芯國際制裁的聯名信，我們雖然需要警惕，但也不必過于緊張。當然，更為關鍵的還是要加快國產半導體設備的發展，加速推進國產化半導體產線的建設。

總結

以上是生活随笔為你收集整理的美国议员叫嚣进一步制裁中芯国际：封锁16nm及以下工艺、DUV设备的全部內容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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