最新仅40nm 日本半导体已落后中国:将发力2nm工艺
在半導(dǎo)體技術(shù)上,日本在上世紀(jì)80年曾是全球第一,還最早發(fā)明了NAND閃存,如今日本半導(dǎo)體行業(yè)已經(jīng)下滑,雖然在閃存芯片、制造設(shè)備等領(lǐng)域還有競(jìng)爭(zhēng)力,但最先進(jìn)的邏輯工藝僅40nm左右,已經(jīng)落后于中國(guó)。
日本半導(dǎo)體衰落跟美國(guó)當(dāng)年的打壓以及刻意扶植韓國(guó)等因素有關(guān),當(dāng)年Intel退出內(nèi)存芯片領(lǐng)域也是跟日本公司的競(jìng)爭(zhēng)有關(guān),不過(guò)現(xiàn)在的形勢(shì)變了,日本在先進(jìn)工藝上已經(jīng)跟美國(guó)展開(kāi)了合作,試圖在未來(lái)幾年量產(chǎn)2nm工藝。
據(jù)日本媒體報(bào)道,日本與美國(guó)在半導(dǎo)體領(lǐng)域已經(jīng)達(dá)成了合作,美國(guó)國(guó)立研究機(jī)構(gòu)和日本的大學(xué)計(jì)劃在日本國(guó)內(nèi)成立聯(lián)盟,Intel以及IBM公司也有可能參與其中,他們提供技術(shù)平臺(tái),與日本的半導(dǎo)體設(shè)備及材料公司聯(lián)合開(kāi)發(fā)可以用于數(shù)據(jù)中心及汽車(chē)自動(dòng)駕駛等行業(yè)的先進(jìn)技術(shù)。
此前的消息稱(chēng),日本與美國(guó)計(jì)劃在2025年左右量產(chǎn)2nm工藝,這將是世界上最先進(jìn)的工藝,屆時(shí)不輸臺(tái)積電、三星或者Intel公司的工藝水平。
總結(jié)
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