集成电路
一、概述
集成電路板是采用半導體制作工藝,在一塊較小的單晶硅片上制作上許多晶體管及電阻器、電容器等元器件,并按照多層布線或遂道布線的方法將元器件組合成完整的電子電路。它在電路中用字母“IC”表示。
集成電路具有體積小,重量輕,引出線和焊接點少,壽命長,可靠性高,性能好等優點,同時成本低,便于大規模生產。它不僅在工、民用電子設備如收錄機、電視機、計算機等方面得到廣泛的應用,同時在軍事、通訊、遙控等方面也得到廣泛的應用。用集成電路來裝配電子設備,其裝配密度比晶體管可提高幾十倍至幾千倍,設備的穩定工作時間也可大大提高。
二、集成電路的分類
(一)按功能結構分類
集成電路按其功能、結構的不同,可以分為模擬集成電路、數字集成電路和數/模混合集成電路三大類。
模擬集成電路又稱線性電路,用來產生、放大和處理各種模擬信號(指幅度隨時間邊疆變化的信號。例如半導體收音機的音頻信號、錄放機的磁帶信號等),其輸入信號和輸出信號成比例關系。而數字集成電路用來產生、放大和處理各種數字信號(指在時間上和幅度上離散取值的信號。例如VCD、DVD重放的音頻信號和視頻信號)。
(二)按制作工藝分類
集成電路按制作工藝可分為半導體集成電路和薄膜集成電路。
膜集成電路又分類厚膜集成電路和薄膜集成電路。
(三)按集成度高低分類
集成電路按集成度高低的不同可分為小規模集成電路、中規模集成電路、大規模集成電路、超大規模集成電路、特大規模集成電路和巨大規模集成電路。
(四)按導電類型不同分類
集成電路按導電類型可分為雙極型集成電路和單極型集成電路,他們都是數字集成電路.
雙極型集成電路的制作工藝復雜,功耗較大,代表集成電路有TTL、ECL、HTL、LST-TL、STTL等類型。單極型集成電路的制作工藝簡單,功耗也較低,易于制成大規模集成電路,代表集成電路有CMOS、NMOS、PMOS等類型。
(五)按用途分類
集成電路按用途可分為電視機用集成電路、音響用集成電路、影碟機用集成電路、錄像機用集成電路、電腦(微機)用集成電路、電子琴用集成電路、通信用集成電路、照相機用集成電路、遙控集成電路、語言集成電路、報警器用集成電路及各種專用集成電路。
(六)按應用領域分
集成電路按應用領域可分為標準通用集成電路和專用集成電路。
(七)按外形分
集成電路按外形可分為圓形(金屬外殼晶體管封裝型,一般適合用于大功率)、扁平型(穩定性好,體積小)和雙列直插型.
三、集成電路發展簡史
1.世界集成電路的發展歷史
1947年:貝爾實驗室肖克萊等人發明了晶體管,這是微電子技術發展中第一個里程碑;
1950年:結型晶體管誕生;
1950年: R Ohl和肖特萊發明了離子注入工藝;
1951年:場效應晶體管發明;
1956年:C S Fuller發明了擴散工藝;
1958年:仙童公司Robert Noyce與德儀公司基爾比間隔數月分別發明了集成電路,開創了世界微電子學的歷史;
1960年:H H Loor和E Castellani發明了光刻工藝;
1962年:美國RCA公司研制出MOS場效應晶體管;
1963年:F.M.Wanlass和C.T.Sah首次提出CMOS技術,今天,95%以上的集成電路芯片都是基于CMOS工藝;
1964年:Intel摩爾提出摩爾定律,預測晶體管集成度將會每18個月增加1倍;
1966年:美國RCA公司研制出CMOS集成電路,并研制出第一塊門陣列(50門);
1967年:應用材料公司(Applied Materials)成立,現已成為全球最大的半導體設備制造公司;
1971年:Intel推出1kb動態隨機存儲器(DRAM),標志著大規模集成電路出現;
1971年:全球第一個微處理器4004由Intel公司推出,采用的是MOS工藝,這是一個里程碑式的發明;
1974年:RCA公司推出第一個CMOS微處理器1802;
1976年:16kb DRAM和4kb SRAM問世;
1978年:64kb動態隨機存儲器誕生,不足0.5平方厘米的硅片上集成了14萬個晶體管,標志著超大規模集成電路(VLSI)時代的來臨;
1979年:Intel推出5MHz 8088微處理器,之后,IBM基于8088推出全球第一臺PC;
1981年:256kb DRAM和64kb CMOS SRAM問世;
1984年:日本宣布推出1Mb DRAM和256kb SRAM;
1985年:80386微處理器問世,20MHz;
1988年:16M DRAM問世,1平方厘米大小的硅片上集成有3500萬個晶體管,標志著進入超大規模集成電路(ULSI)階段;
1989年:1Mb DRAM進入市場;
1989年:486微處理器推出,25MHz,1μm工藝,后來50MHz芯片采用 0.8μm工藝;
1992年:64M位隨機存儲器問世;
1993年:66MHz奔騰處理器推出,采用0.6μm工藝;
1995年:Pentium Pro, 133MHz,采用0.6-0.35μm工藝;
1997年:300MHz奔騰Ⅱ問世,采用0.25μm工藝;
1999年:奔騰Ⅲ問世,450MHz,采用0.25μm工藝,后采用0.18μm工藝;
2000年: 1Gb RAM投放市場;
2000年:奔騰4問世,1.5GHz,采用0.18μm工藝;
2001年:Intel宣布2001年下半年采用0.13μm工藝。
2.我國集成電路的發展歷史
我國集成電路產業誕生于六十年代,共經歷了三個發展階段:
1965年-1978年:以計算機和軍工配套為目標,以開發邏輯電路為主要產品,初步建立集成電路工業基礎及相關設備、儀器、材料的配套條件;
1978年-1990年:主要引進美國二手設備,改善集成電路裝備水平,在“治散治亂”的同時,以消費類整機作為配套重點,較好地解決了彩電集成電路的國產化;
1990年-2000年:以908工程、909工程為重點,以CAD為突破口,抓好科技攻關和北方科研開發基地的建設,為信息產業服務,集成電路行業取得了新的發展。
四、集成電路產業的發展
近幾年,中國集成電路產業取得了飛速發展。中國集成電路產業已經成為全球半導體產業關注的焦點,即使在全球半導體產業陷入有史以來程度最嚴重的低迷階段時,中國集成電路市場仍保持了兩位數的年增長率,憑借巨大的市場需求、較低的生產成本、豐富的人力資源,以及經濟的穩定發展和寬松的政策環境等眾多優勢條件,以京津唐地區、長江三角洲地區和珠江三角洲地區為代表的產業基地迅速發展壯大,制造業、設計業和封裝業等集成電路產業各環節逐步完善。
2006年中國集成電路市場銷售額為4862.5億元,同比增長27.8%。其中IC設計業年銷售額為186.2億元,比2005年增長49.8%。
2007年中國集成電路產業規模達到1251.3億元,同比增長24.3%,集成電路市場銷售額為5623.7億元,同比增長18.6%。而計算機類、消費類、網絡通信類三大領域占中國集成電路市場的88.1%。
目前,中國集成電路產業已經形成了IC設計、制造、封裝測試三業及支撐配套業共同發展的較為完善的產業鏈格局,隨著IC設計和芯片制造行業的迅猛發展,國內集成電路價值鏈格局繼續改變,其總體趨勢是設計業和芯片制造業所占比例迅速上升。
2009-05-22 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?
注:源自原百度博客“至美心”
總結
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