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半导体行业新挑战:光刻胶价格上涨 10%-20%

發(fā)布時(shí)間:2023/12/15 windows 54 传统文化
生活随笔 收集整理的這篇文章主要介紹了 半导体行业新挑战:光刻胶价格上涨 10%-20% 小編覺(jué)得挺不錯(cuò)的,現(xiàn)在分享給大家,幫大家做個(gè)參考.

12 月 14 日消息,根據(jù)韓媒 The Elec 報(bào)道,日本住友化學(xué)子公司東友精密化學(xué)(Dongwoo Fine-Chem)通知韓國(guó)半導(dǎo)體公司,表示由于原材料和勞動(dòng)力費(fèi)用不斷上漲,KrF 和 L 系列光刻膠供貨價(jià)格將上漲 10-20%。

注:光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。

光刻膠是光刻工藝中的關(guān)鍵材料,主要應(yīng)用于積體電路和分立器件的細(xì)微圖形加工。

光刻膠品種眾多,本次提價(jià)涉及的 KrF 光刻膠屬于高端光刻膠,是未來(lái)國(guó)內(nèi)外廠商的主要競(jìng)爭(zhēng)市場(chǎng)之一。

目前光刻膠市場(chǎng)一直由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學(xué)、住友化學(xué)和東進(jìn)半導(dǎo)體等主要制造商主導(dǎo)。

光刻膠行業(yè)需要高度專業(yè)化,涉及復(fù)雜的樹(shù)脂、感光酸和添加劑配方,每家公司都將其視為商業(yè)機(jī)密。

巨大的技術(shù)壁壘,加上從實(shí)驗(yàn)室試驗(yàn)到市場(chǎng)生產(chǎn)對(duì)純度和性能的需求,使得整個(gè)產(chǎn)品開(kāi)發(fā)過(guò)程既耗時(shí)又復(fù)雜。

此外,滿足客戶要求和生產(chǎn)線的調(diào)整需要 1 到 3 年的驗(yàn)證,讓客戶難以轉(zhuǎn)移現(xiàn)有合作的光刻膠公司。

面對(duì)技術(shù)和以客戶為中心的挑戰(zhàn),光刻膠公司擁有強(qiáng)大的談判能力。最近光刻膠價(jià)格的上漲引發(fā)了韓國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的明顯反應(yīng)。

晶圓代工廠內(nèi)部人士評(píng)論說(shuō):

面對(duì)不斷上漲的光刻膠價(jià)格,晶圓代工廠別無(wú)選擇,只能將部分成本轉(zhuǎn)嫁給客戶(無(wú)晶圓廠公司)。

東友精密化學(xué)提高光刻膠價(jià)格,可能會(huì)導(dǎo)致晶圓代工廠和無(wú)晶圓廠行業(yè)的盈利能力下降。

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總結(jié)

以上是生活随笔為你收集整理的半导体行业新挑战:光刻胶价格上涨 10%-20%的全部?jī)?nèi)容,希望文章能夠幫你解決所遇到的問(wèn)題。

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