本文操作環境：Windows7系統，Dell G3電腦。

euv和duv區別：

1、制程范圍不同

duv：基本上只能做到25nm，Intel憑借雙工作臺的模式做到了10nm，卻無法達到10nm以下。

euv：能滿足10nm以下的晶圓權制造，并且還可以向5nm、3nm繼續延伸。

2、發光原理不同

duv：光源為準分子激光，光源的波長能達到193納米。

euv：激光激發等離子來發射EUV光子，光源的波長則為13.5納米。

3、光路系統不同

duv：主要利用光的折射原理。其中，浸沒式光刻機會在投影透鏡與晶圓之間，填入去離子水，使得193nm的光波等效至134nm。

euv：利用的光的反射原理，內部必須為真空操作。

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總結

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