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编程问答

PCB设计中的正片和负片设计原理

發布時間:2024/1/1 编程问答 43 豆豆
生活随笔 收集整理的這篇文章主要介紹了 PCB设计中的正片和负片设计原理 小編覺得挺不錯的,現在分享給大家,幫大家做個參考.

PCB實際的最終目的

讓需要導通的地方鋪有銅,讓不需要導通的地方沒有銅

正片和負片的含義

參考:https://www.sohu.com/a/203224754_100012544,https://blog.csdn.net/weixin_42837669/article/details/110411765
查找資料中常見說法正片是默認無銅,有走線的保留,無走線的清除;**負片:**默認有銅,走線的無銅,不走線的有銅。但這種解釋真的很爛(個人覺得),**第一眼感覺這個解釋怎么負片設計方式導電不用銅了!**后來在第一個參考連接中看到的幾句解釋才感覺合理。下面是復制參考中的兩段話,(實際如下圖)

負片:一般是我們講的tenting制程,其使用的藥液為酸性蝕刻。
負片是因為底片制作出來后,要的線路或銅面是透明的,而不要的部份則為黑色或棕色的,經過線路制程曝光后,透明部份因干膜阻劑受光照而起化學作用硬化,接下來的顯影制程會把沒有硬化的干膜沖掉,于是在蝕刻制程中僅咬蝕干膜沖掉部份的銅箔(底片黑色或棕色的部份),而保留干膜未被沖掉屬于我們要的線路(底片透明的部份),去膜以后就留下了我們所需要的線路,在這種制程中膜對孔要掩蓋,其曝光的要求和對膜的要求稍高一些,但其制造的流程速度快。
正片:一般是我們講的pattern制程,其使用的藥液為堿性蝕刻。
正片若以底片來看,要的線路或銅面是黑色或棕色的,而不要部份則為透明的,同樣地經過線路制程曝光后,透明部份因干膜阻劑受光照而起化學作用硬化,接下來的顯影制程會把沒有硬化的干膜沖掉,接著是鍍錫鉛的制程,把錫鉛鍍在前一制程(顯影)干膜沖掉的銅面上,然后作去膜的動作(去除因光照而硬化的干膜),而在下一制程蝕刻中,用堿性藥水咬掉沒有錫鉛保護的銅箔(底片透明的部份),剩下的就是我們要的線路(底片黑色或棕色的部份)。


從上圖可以看出,正片和負片的設計實際是指在光源下圖片的顯示方式。說白就是需要導電的路徑是不是透明的,對于透明的做右面的處理,對于不透明的做左邊的處理(文字中描述的只是一種可能的方式,個人不是這方面專業人員,很多不太清楚)。但最終目的是為了將需要導電的路徑上覆銅。
個人感覺,哪種方式方便和金屬表面的涂層有很大關系,和自己電路圖中劃線多少沒啥關系。例如,已經設計好的一個PCB需要的銅路徑已經固定,那種方式都是腐蝕掉同樣的銅,這只是和怎么得到裸漏的銅的過程有關

總結

以上是生活随笔為你收集整理的PCB设计中的正片和负片设计原理的全部內容,希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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