芯片制造过程2
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鏈接: 芯片制造詳解02:晶圓的誕生|國產(chǎn)之路第一關(guān):硅片的制造
文章目錄
- 1硅片的制造
- 1. 截段
- 2.滾磨
- 3. 磨研定位邊(槽)
- 4. 切片
- 5. 磨片
- 6. 倒角
- 7.刻蝕
- 8.化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)
- 9. 濕法清洗
- 10.檢測封裝
- 2硅片市場
- 1.硅片市場占比
- 2.硅片指標(biāo)
- 3.芯片產(chǎn)業(yè)鏈規(guī)模
- 4.國內(nèi)硅片市場難題
1硅片的制造
????硅片就是光禿禿的晶圓,經(jīng)過光刻、外延、刻蝕等操作,變成包含有數(shù)百枚芯片的成熟晶圓,再經(jīng)過切割,封裝成一個個獨(dú)立的芯片。
1. 截段
????首先硅棒會被截去硅頭和硅尾,切下來的部分如果質(zhì)量好,可以削成籽晶,用來拉出新的硅棒。接下來用四探針法,測量棒身的電阻率,以此來檢查軸向的雜質(zhì)濃度是否異常。檢測完成后,將其裁成30cm左右長度的硅段,然后進(jìn)入下一道工序——磨滾。
2.滾磨
????將硅段固定在機(jī)器上緩慢滾動,用側(cè)面的金剛石砂輪對棒身進(jìn)行打磨,由于直拉法無法精確控制晶體生長來獲得完美的圓柱體,首先得拉出一個粗一點的硅棒,再通過滾磨得到想要的目標(biāo)尺寸,該步驟會大量摩擦發(fā)熱,需要持續(xù)加水降溫。
3. 磨研定位邊(槽)
????滾磨完成后,在硅段側(cè)面磨出一個平面或一道溝槽,這就是以后硅片上的定位邊(flat)或者點位槽(notch),光刻機(jī)需要通過他們來對硅片進(jìn)行最開始的定位和校準(zhǔn),在業(yè)界,定位邊還有一個小作用,就是表明硅片的類型和晶向。
4. 切片
????以前普遍用內(nèi)圓切割機(jī),差不多是帶有環(huán)形刀片的狗頭鍘,有點是切割穩(wěn)定,切面平整,但是效率低,一次只能切一片,而且由于刃口較厚,切割時損耗的硅料較多,不適合處理相對于更薄更大尺寸硅片;目前主流的切片方式是使用金剛線的多線切割機(jī),也就是上面固定金剛石顆粒的鋼絲線同時對硅段進(jìn)行多段切割,線切法雖然不如傳統(tǒng)刀片穩(wěn)定,后續(xù)硅片打磨時間也更長,但勝在切割效率高損耗低。
5. 磨片
????切下來的硅片會先經(jīng)過一遍機(jī)械打磨,讓表面更加平整且讓整體更薄,比如12英寸的硅片通過磨片會將厚度減少到775微米左右,同時硅片還要做背損傷(backside rounghening),人為制造一個粗糙的背部,比如在背面噴砂或者沉積一層多晶硅,這樣是為了在底部制造大量晶體缺陷作為陷阱,把后續(xù)工藝中不想要的金屬雜質(zhì)困在底層,從而保護(hù)上層的器件。
6. 倒角
????通過倒角機(jī)把硅片邊緣的直角邊磨成圓弧形——因為高純度硅是一種脆性很高的材料,如此處理可以降低邊緣處發(fā)生崩裂(chipping)的風(fēng)險。除此以外,有弧度的邊角在后續(xù)的芯片制造工藝中還有兩個作用,一實在光刻時,光刻膠是通過旋轉(zhuǎn)的方式涂抹在硅片表面上的,如果邊緣是直角邊,光刻膠容易因為離心力在邊緣處累積造成厚度不均從而影響光刻;二是在外延生長時,沉積物會優(yōu)先堆積在直角邊影響沉積效果,而圓弧狀的角可以消除邊緣沉積的現(xiàn)象(Edge Crown)。
7.刻蝕
????磨片倒角完成后,廠商會對硅片打上激光標(biāo)識碼再進(jìn)行一遍精磨去除10微米的厚度,然后放入溶劑中進(jìn)行化學(xué)刻蝕,通常使用氫硝酸和氫氟酸腐蝕掉表面約20~50微米左右的厚度,來去除之前打磨過程中硅片積累的機(jī)械損傷以及混入硅片表層的磨料
- Si+HNO3+6HF —20℃—> H2SiF6+HNO2+H2O
8.化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)
????到此為止硅片表面已經(jīng)很光滑了,但是制造芯片還遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠,根據(jù)04年國際半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展藍(lán)圖,12寸的硅片整體平整度要小于51納米,相當(dāng)于在電影院掛一塊IMAX幕布起伏比一根頭發(fā)絲還要細(xì),為了達(dá)到這種極致的平坦,需要對硅片進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical-Mechanical Polishing),這一步結(jié)合了物理化學(xué)的理綜型拋光手段。將硅片裝在旋轉(zhuǎn)的拋光儀器上,下降到下方,表面薄層會先被研磨液化學(xué)氧化,再被拋光墊物理打磨,這一步硅片厚度會再打薄5微米左右,直到被拋光成完美的鏡面。通常對8英寸硅片進(jìn)行單面拋光,12英寸硅片進(jìn)行雙面拋光。
9. 濕法清洗
????用去離子水和各種化學(xué)溶劑進(jìn)行清洗,去掉制程中黏附在表面的各種塵埃和雜質(zhì),顆粒物要求尺寸只有幾納米,比無菌手術(shù)還嚴(yán)格,一粒流感病毒直徑就有100納米,細(xì)菌就更大了,所以很多硅片廠或晶圓廠的員工得了感冒必須休假,否則打一個噴嚏都可能污染芯片,這也是疫情對芯片產(chǎn)業(yè)打擊格外嚴(yán)重的原因之一。
10.檢測封裝
????在平整度、清潔度之外,硅片還要保證翹曲度、氧含量、金屬殘余量等指標(biāo),要經(jīng)過電鏡檢查、光學(xué)散射等各種檢測達(dá)標(biāo)后,一張硅片才算合格。它將被放在充滿氮?dú)獾拿芊夂欣?#xff0c;然后送往晶圓廠。
2硅片市場
1.硅片市場占比
????目前芯片市場主要控制在5家公司手中
| 日本 | 信越化工 | 33% |
| 日本 | 勝高集團(tuán) | 25% |
| 中國臺灣 | 環(huán)球晶圓 | 17% |
| 德國 | 世創(chuàng) | 13% |
| 韓國 | SK Siltron | 12% |
????5家公司一共占領(lǐng)全球90%的硅片供應(yīng)。日本是第一個實現(xiàn)了12英寸大硅片量產(chǎn)的國家,此后一直保持著硅片技術(shù)上的先發(fā)優(yōu)勢。環(huán)球晶圓是一家2011年才成立的企業(yè),靠著從中美矽晶繼承下來的技術(shù)累積以及近幾年強(qiáng)勢的并購擴(kuò)張,迅速成長為硅片市場第三,22年下半年它還將并購第四的德國世創(chuàng),屆時市占率將超過30%,與信越化工爭奪第一。
2.硅片指標(biāo)
????光伏級單晶硅的純度要求99.9999%,而半導(dǎo)體的純度要求10~11個9,雖然兩者制作流程基本相同,但是在廠房設(shè)備和控制精度上相差懸殊。
????硅片的尺寸有很多種,8英寸和12英寸指的是200和300毫米直徑的硅片或晶圓。理論上直徑越大越好,這樣單片晶圓產(chǎn)出的芯片更多,而且硅片邊緣處的殘損芯片(edge die)占比更少,提高了生產(chǎn)良率,分?jǐn)偭酥圃斐杀?#xff0c;但是大硅片在工藝和設(shè)備上的門檻也更高。目前8英寸廣發(fā)應(yīng)用于90納米以上的成熟制程,汽車的傳感器和功率器件大部分都是來自于8英寸硅片;12英寸的大硅片則用于更先進(jìn)的制程,電腦CPU、顯卡和手機(jī)存儲卡基本都產(chǎn)自12英寸硅片。
3.芯片產(chǎn)業(yè)鏈規(guī)模
????目前我國生產(chǎn)的單晶硅料和硅片絕大部分都是光伏級,從全球產(chǎn)業(yè)規(guī)模來看,光伏產(chǎn)業(yè)全球市場份額在1000億美元左右的規(guī)模,近年的生產(chǎn)和市場增量基本都在我國——但用來做芯片的半導(dǎo)體級硅片,大陸的企業(yè)產(chǎn)能占比驟降到不到5%,雖然半導(dǎo)體硅片的市場規(guī)模只有100多億美元,看上去沒什么肉,但別忘了,這只是整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的最上游,越往下走,利潤就會以指數(shù)形式增長,有了硅片,就可以造芯片,芯片的市場規(guī)模高達(dá)4000億美元,然后才能生產(chǎn)電腦、手機(jī)等電子產(chǎn)品,到這就是遠(yuǎn)超光伏級產(chǎn)業(yè)的萬億美元級別,民用和軍工大市場。真?zhèn)€半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈環(huán)環(huán)相扣,上中游三層,每一層都是下一層的入場券。
| 光伏級硅片 | ~1000億美元 |
| 半導(dǎo)體級硅片 | ~112美元 |
| 芯片 | 4000億美元 |
| 電子產(chǎn)品 | 16800億美元 |
4.國內(nèi)硅片市場難題
總結(jié)
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