“集成電路是一個(gè)非常典型的全球化產(chǎn)業(yè)。在后摩爾定律時(shí)代，產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)放緩，系統(tǒng)結(jié)構(gòu)、特色工藝和先進(jìn)封裝在芯片制造方面大有可為。”在題為“關(guān)于我國(guó)芯片制造的一些思考”的演講中，中國(guó)工程院院士、浙江大學(xué)微納電子學(xué)院院長(zhǎng)吳漢明這樣談道。

現(xiàn)階段，復(fù)雜的國(guó)際形勢(shì)使我國(guó)在集成電路的技術(shù)創(chuàng)新方面，面臨較大壁壘。

吳漢明指出，現(xiàn)階段，極小(納米)與超大(萬(wàn)億晶體管)制造工藝的極限組合已經(jīng)成為主流，該組合對(duì)芯片的制造工藝提出了更高的要求。

從技術(shù)層面來(lái)看，我國(guó)芯片制造的技術(shù)基礎(chǔ)薄弱，產(chǎn)業(yè)技術(shù)儲(chǔ)備匱乏。世界龍頭企業(yè)作為先行者，早期就布置下了知識(shí)產(chǎn)權(quán)壁壘。在此情況下，國(guó)內(nèi)企業(yè)需要擁有自己的專利庫(kù)，并掌握核心技術(shù)。

吳漢明表示，集成電路產(chǎn)業(yè)鏈的環(huán)節(jié)繁多，目前，國(guó)內(nèi)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的短板在裝備方面。比如，我國(guó)在光刻機(jī)方面就存在弱項(xiàng)。在檢測(cè)領(lǐng)域，我國(guó)企業(yè)很少涉足，因此國(guó)內(nèi)產(chǎn)業(yè)在該領(lǐng)域的發(fā)展基本是空白。在半導(dǎo)體材料方面，我國(guó)光刻膠、掩膜版、大硅片產(chǎn)品幾乎都要依賴進(jìn)口。

當(dāng)前，我國(guó)在先進(jìn)制程的研發(fā)上落后于國(guó)外企業(yè)，但在系統(tǒng)結(jié)構(gòu)上有巨大的創(chuàng)新空間。吳漢明指出，要依靠國(guó)內(nèi)現(xiàn)有力量，創(chuàng)造出一個(gè)“顛覆傳統(tǒng)計(jì)算機(jī)體系結(jié)構(gòu)”的新系統(tǒng)。異構(gòu)單芯片集成技術(shù)的使用就是佐證這點(diǎn)的例子之一。通過(guò)異構(gòu)單芯片集成技術(shù)，可以在采用40nm工藝的情況下，根據(jù)需求提升芯片的性能。

此外，在先進(jìn)制程研發(fā)不占優(yōu)勢(shì)的情況下，我國(guó)可以運(yùn)用成熟的工藝，把芯片的性能提升。吳漢明認(rèn)為，特色工藝、先進(jìn)系統(tǒng)與先進(jìn)封裝技術(shù)的結(jié)合運(yùn)用，可以使我國(guó)在芯片制造領(lǐng)域大有可為。“相比完全進(jìn)口的7nm，本土可控的55nm意義更大。”吳漢明說(shuō)道。

在演講的最后，吳漢明還針對(duì)我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提出了建議。他表示，首先，要重視產(chǎn)業(yè)鏈的本土化，要讓制造產(chǎn)能實(shí)現(xiàn)增長(zhǎng)，至少增長(zhǎng)率要高于全球。其次，要樹(shù)立以產(chǎn)業(yè)技術(shù)為導(dǎo)向的科技文化，技術(shù)成果全靠市場(chǎng)鑒定。最后，要加速公共技術(shù)研發(fā)平臺(tái)建設(shè)，發(fā)揮“集中力量辦大事”的優(yōu)勢(shì)。

總結(jié)

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