質(zhì)譜中最常見最基本的裂解方式類型包括電子轟擊離子化（Electron Impact, EI）和化學(xué)離解質(zhì)譜（Chemical Ionization, CI）。 1. 電子轟擊離子化（Electron Impact, EI）：在EI離子源中，樣品分子被高能電子束撞擊，從而形成帶電離子。這些離子經(jīng)過質(zhì)量分析儀器的加速裝置和分析部件進(jìn)行分析和檢測。EI離子化方式產(chǎn)生的離子通常具有高能量，碎片化嚴(yán)重，但也保留了分子的一些結(jié)構(gòu)信息。 2. 化學(xué)離解質(zhì)譜（Chemical Ionization, CI）：在CI離子源中，通過與反應(yīng)氣體（如氨氣或甲烷）發(fā)生反應(yīng)，形成離子。這種離子源產(chǎn)生的離子相對(duì)溫和，碎片化較少，能夠保留更多的分子結(jié)構(gòu)信息。CI離子化方式常用于對(duì)高沸點(diǎn)化合物或化學(xué)穩(wěn)定性較差的化合物進(jìn)行離子化。 此外，還有其他類型的裂解方式，如電噴霧離子化質(zhì)譜（Electrospray Ionization, ESI）、飛行時(shí)間質(zhì)譜（Time-of-Flight, TOF）等，它們在特定的實(shí)驗(yàn)條件下可以產(chǎn)生更為特定的離子。

總結(jié)

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