三星3纳米芯片成功流片 距离规模化量产不远了
大家都知道,芯片的制程很大程度上能決定芯片的性能,最近有消息稱三星的3納米工藝流片成功,這篇文章就跟大家聊聊。
據(jù)外媒報(bào)道,三星日前表示,采用GAA 架構(gòu)的3 納米制程技術(shù)已正式流片(Tape Out),對(duì)全球只有這兩家能做到5 納米制程以下的半導(dǎo)體晶圓代工廠來(lái)說(shuō),較勁意味濃厚。
外媒報(bào)道指出,三星3 納米制程流片進(jìn)度是與新思科技(Synopsys)合作,加速為GAA 架構(gòu)的生產(chǎn)流程提供高度優(yōu)化參考方法。因三星3 納米制程不同于臺(tái)積電或英特爾的FinFET 架構(gòu),而是GAA 架構(gòu),三星需要新設(shè)計(jì)和認(rèn)證工具,因此采用新思科技的Fusion DesignPlatform。
制程技術(shù)的物理設(shè)計(jì)套件(PDK)已在2019年5 月發(fā)布,并2020 年通過(guò)制程技術(shù)認(rèn)證。預(yù)計(jì)此流程使三星3 納米GAA 結(jié)構(gòu)制程技術(shù)用于高性能運(yùn)算(HPC)、5G、行動(dòng)和高階網(wǎng)站小編(本站小編)應(yīng)用芯片生產(chǎn)。
蘋(píng)果此前已經(jīng)預(yù)訂了臺(tái)積電未來(lái)Mac的4納米芯片生產(chǎn)的初始容量,最近還根據(jù)增強(qiáng)的5納米工藝,訂購(gòu)臺(tái)積電開(kāi)始為即將推出的iPhone 13生產(chǎn)A15芯片。
另外知情人士也透漏了臺(tái)積電更長(zhǎng)期的計(jì)劃,稱新的3納米芯片工藝將提供15%的性能提升,同時(shí)提高30%的能效,并將在明年底投入大規(guī)模生產(chǎn)。
臺(tái)積電聲稱,在2022年下半年開(kāi)始量產(chǎn)時(shí),其N3技術(shù)將成為全球最先進(jìn)的技術(shù)。N3將依靠經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的FinFET晶體管架構(gòu),以獲得最佳性能、功率效率和成本效益,比N5提供高達(dá)15%的速度增益或消耗高達(dá)30%的功率,并提供高達(dá)70%的邏輯密度增益。
2021年是摩爾定律發(fā)展的重要里程碑,IBM在2納米、臺(tái)積電在1納米雙雙取得突破。身為先進(jìn)制程的“技術(shù)推動(dòng)者”,臺(tái)積電目前已是全球芯片業(yè)市值最大的公司,獲得市場(chǎng)主流觀點(diǎn)一致樂(lè)觀看好。
綜合以上信息,在芯片代工領(lǐng)域,臺(tái)積電和三星競(jìng)爭(zhēng)十分激烈,希望這篇文章能給大家?guī)?lái)幫助!
總結(jié)
以上是生活随笔為你收集整理的三星3纳米芯片成功流片 距离规模化量产不远了的全部?jī)?nèi)容,希望文章能夠幫你解決所遇到的問(wèn)題。
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