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pcb钻孔披锋改善报告_高速高频PCB技术 || 玻纤效应对高速信号的影响

發(fā)布時(shí)間:2025/3/15 58 豆豆
生活随笔 收集整理的這篇文章主要介紹了 pcb钻孔披锋改善报告_高速高频PCB技术 || 玻纤效应对高速信号的影响 小編覺(jué)得挺不錯(cuò)的,現(xiàn)在分享給大家,幫大家做個(gè)參考.

摘要:PCB信號(hào)傳輸?shù)母哳l和高速化發(fā)展對(duì)印制電路板材料的選擇、設(shè)計(jì)及制作提出了更高的要求,尤其是100G骨干網(wǎng)的發(fā)展,印制電路板上差分阻抗線要實(shí)現(xiàn)25Gbps的傳輸速率。當(dāng)系統(tǒng)總線上的信號(hào)速率提升到Gbps級(jí)別時(shí),之前電子工業(yè)界認(rèn)為的PCB介質(zhì)層是均勻的假設(shè)不再適用,PCB介質(zhì)層是由嵌在環(huán)氧樹(shù)脂中的玻纖束交織混合而成,玻璃纖維束之間的間隙會(huì)導(dǎo)致介質(zhì)層相對(duì)介電常數(shù)的局部變化(玻纖效應(yīng)),在高速傳輸時(shí)會(huì)對(duì)信號(hào)產(chǎn)生不可忽視的影響。本文分析探討了不同規(guī)格玻纖布的玻纖效應(yīng)對(duì)傳輸線阻抗波動(dòng)的影響及其對(duì)差分信號(hào)Skew值的影響程度,對(duì)比了扁平玻纖布及NE-Glass玻纖布對(duì)阻抗波動(dòng)及差分Skew的改善效果,并分析了不同布線方式對(duì)Skew值的改善,提出了減少差分Skew的處理方法,可為高速信號(hào)傳輸?shù)倪x材及設(shè)計(jì)優(yōu)化提供依據(jù)。

關(guān)鍵詞:玻纖效應(yīng) ;高速信號(hào);阻抗波動(dòng);差分Skew

01/前言

無(wú)線通訊、電子信息產(chǎn)品的不斷升級(jí)換代及信號(hào)傳輸?shù)母咚倩⒏哳l化發(fā)展,對(duì)PCB阻抗控制和信號(hào)完整性提出了更高的要求。目前,骨干網(wǎng)傳輸速率已經(jīng)高達(dá)100Gbps,相應(yīng)的PCB單通道傳輸速率高達(dá)10Gbps或25Gbps,且信號(hào)傳輸速率還在不斷的朝著高速化方向發(fā)展。對(duì)于PCB板上傳輸?shù)臄?shù)字信號(hào)來(lái)說(shuō),電子工業(yè)界應(yīng)用的包括FR4在內(nèi)的許多電介質(zhì)材料,在低速低頻傳輸時(shí)一直被認(rèn)為是均勻的。但當(dāng)系統(tǒng)總線上電子信號(hào)速率達(dá)到Gbps級(jí)別時(shí),這種均勻性假設(shè)不再成立,此時(shí)交織在環(huán)氧樹(shù)脂基材中的玻璃纖維束之間的間隙引起的介質(zhì)層相對(duì)介電常數(shù)的局部變化將不可忽視,介電常數(shù)的局部擾動(dòng)將使線路的時(shí)延和特征阻抗與空間相關(guān),從而影響高速信號(hào)的傳輸[1-3]。目前,國(guó)內(nèi)外PCB廠家對(duì)玻纖效應(yīng)影響信號(hào)質(zhì)量研究很少關(guān)注,對(duì)于玻纖布結(jié)構(gòu)對(duì)信號(hào)的影響研究也只停留在理論分析階段。基于FR4測(cè)試基板的測(cè)試數(shù)據(jù)表明,由于微帶線與玻纖束相對(duì)位置差異,導(dǎo)致測(cè)量所得的傳輸線有效介電常數(shù)波動(dòng)較大,最大、最小值之差最大可以達(dá)到△εr=0.4。盡管這些空間擾動(dòng)看上去較小,它會(huì)嚴(yán)重影響數(shù)據(jù)速度為5-10Gbps的差分傳輸線[4]。

本文先對(duì)目前電子玻纖及其帶來(lái)的玻纖效應(yīng)進(jìn)行簡(jiǎn)介,并通過(guò)設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn),分析探討了不同規(guī)格玻纖布的玻纖效應(yīng)對(duì)傳輸線阻抗波動(dòng)的影響及其對(duì)差分信號(hào)Skew值的影響程度,對(duì)比了扁平玻纖布及NE-Glass玻纖布相對(duì)于常規(guī)玻纖布對(duì)傳輸線阻抗波動(dòng)及差分Skew的改善效果,并分析了不同布線方式對(duì)Skew值的改善,提出了減少差分Skew的處理方法,可為高速信號(hào)傳輸?shù)倪x材及設(shè)計(jì)優(yōu)化提供依據(jù)。

1.1 電子玻纖簡(jiǎn)介

印制電路板的基礎(chǔ)材料是覆銅板,目前最常用的FR4覆銅板是以電子玻纖布為增強(qiáng)材料,浸以環(huán)氧樹(shù)脂,單面或雙面覆以一定厚度的銅箔,經(jīng)熱壓處理而成的板狀材料。玻纖布是基板材料的骨架,它可以提高基板材料的強(qiáng)度,同時(shí)維持其結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。目前,覆銅板中應(yīng)用的電子玻纖布主要有E-玻纖布(Electrical Glass, E-glass)、扁平E-玻纖布(Miracle Super Glass, MS-glass)和NE-玻纖布(NE-glass)三種。

常規(guī)的E-glass是由玻纖紗織布而成的,即采用經(jīng)紗(warp)和緯紗(waft)織成“網(wǎng)狀”布,這種類(lèi)型的玻纖布存在高密度玻璃纖維區(qū)、低密度玻璃纖維區(qū)和無(wú)玻纖區(qū)(如圖1所示)。由圖1可以看出,經(jīng)緯紗交接點(diǎn)為高密度玻纖區(qū),單根紗(經(jīng)紗或緯紗)區(qū)域?yàn)榈兔芏炔@w區(qū),經(jīng)緯紗之間的空隙即為無(wú)玻纖區(qū)。由于E-glass具有良好的電氣絕緣性和機(jī)械性能,且價(jià)格較為低廉,目前在基板材料中應(yīng)用最多。
隨著電子技術(shù)的快速進(jìn)步和產(chǎn)品的不斷更新,玻纖增強(qiáng)技術(shù)遇到了嚴(yán)峻的挑戰(zhàn),例如:加工制作過(guò)程激光微孔品質(zhì)不好、耐受陽(yáng)極性纖維漏電性能差。近年來(lái),很多電子產(chǎn)品的工作主頻率達(dá)到GHz以上,由于增強(qiáng)玻纖束間存在間隙,介質(zhì)均一性差,導(dǎo)致信號(hào)在傳輸過(guò)程中發(fā)生扭曲變形。針對(duì)這些問(wèn)題,催生了電子玻纖布的開(kāi)纖技術(shù)(開(kāi)纖玻纖布形貌如圖2所示)。開(kāi)纖技術(shù)主要是指在生產(chǎn)過(guò)程中,對(duì)電子玻纖布進(jìn)行扁平化處理,提高其表面積。玻纖經(jīng)過(guò)開(kāi)纖或扁平化處理后,使原來(lái)常規(guī)的E-玻纖布的經(jīng)紗和緯紗的玻璃纖維束散開(kāi)并更均勻地分散,由此得到的玻纖布即為開(kāi)纖E-玻纖布和扁平E-玻纖布(如圖3所示)。經(jīng)過(guò)開(kāi)纖或扁平化處理后,玻纖的表面積增大,其與樹(shù)脂的接觸面積增大,有助于提升玻纖與樹(shù)脂的浸透速度,增強(qiáng)結(jié)合力。同時(shí),玻纖布經(jīng)過(guò)開(kāi)纖或扁平化處理后,經(jīng)、緯紗之間的空隙變窄、單股紗的寬度增加,且交接點(diǎn)更加平滑[5, 6]。相對(duì)于開(kāi)纖E-玻纖布來(lái)說(shuō),扁平E-玻纖布經(jīng)緯紗之間的間隙更小,玻纖更加平整,因此扁平E-玻纖布具有更均勻的玻璃纖維分布。

NE-玻纖布是日本日東紡織株式會(huì)社(Nitto Boseki Co., Ltd)為印制電路板研發(fā)的低介電常數(shù)和低介質(zhì)損耗角正切的玻璃纖維,與E-玻纖布相比,NE-玻纖布具有更低的介電常數(shù)和介質(zhì)損耗(如表1所示)、更低的熱膨脹系數(shù)、優(yōu)異的尺寸穩(wěn)定性和較高的硬度,其介電常數(shù)可達(dá)到4.4(1MHz條件下)。同時(shí),與E-玻纖布相比,NE-玻纖布也具有更加均勻的玻璃纖維分布。因此,NE-玻纖布常用于制作高性能信號(hào)傳輸產(chǎn)品。表1 E-glass與NE-glass性能參數(shù)[3]

1.2 玻纖效應(yīng)
PCB的介質(zhì)層由嵌在環(huán)氧樹(shù)脂中的玻纖布交織混合組成的,其結(jié)構(gòu)如圖4所示,由于玻纖布的相對(duì)介電常數(shù)與環(huán)氧樹(shù)脂存在較大差異(一般環(huán)氧樹(shù)脂的介電常數(shù)在3左右,玻纖布的介電常數(shù)在6左右),因此該介質(zhì)層的介電常數(shù)取決于玻璃纖維與樹(shù)脂的介電常數(shù)及其在介質(zhì)層中所占的體積比,其計(jì)算公式如式1所示。

εr=εresinVresin+εglassVglass=εresinVresin+εglass*(1-Vresin) (式1)

其中,εresin和εglass分別為環(huán)氧樹(shù)脂和玻璃纖維的介電常數(shù),Vresin和Vglass分別為環(huán)氧樹(shù)脂和玻璃纖維的體積比。

對(duì)于PCB介質(zhì)層來(lái)說(shuō),其介電常數(shù)差異主要取決于使用的玻纖布類(lèi)別。在信號(hào)傳輸以低頻為主的時(shí)代,人們一直認(rèn)為PCB介質(zhì)層是均勻的,玻纖布對(duì)PCB電氣性能的影響極小。但當(dāng)PCB傳輸?shù)男盘?hào)頻率高達(dá)數(shù)GHz時(shí),介質(zhì)層局部特性的擾動(dòng)使均勻電介質(zhì)假設(shè)不再可行。表2指出了常見(jiàn)玻纖布經(jīng)緯紗線的寬度及其間隙大小,以3313玻纖為例,其經(jīng)緯向玻纖束之間的間距是3.1×5.3mil。從表2數(shù)據(jù)不難看出玻纖束的尺寸要比線路板上傳輸線寬度要大(目前多數(shù)傳輸線寬度在10mil以下),由于目前多數(shù)布線策略是將系統(tǒng)總線中的傳輸線與基板邊緣成0o或者90o角方向布線,這樣會(huì)導(dǎo)致傳輸線方向與玻纖束的經(jīng)緯向相平行,此時(shí)可能會(huì)出現(xiàn)以下幾種極限情況(如圖5所示):①傳輸線在經(jīng)向玻纖束正上方;②傳輸線在緯向玻纖束正上方;③傳輸線在兩根經(jīng)向玻纖束中間;④傳輸線在兩根緯向玻纖束中間。表2 常見(jiàn)玻纖布參數(shù)

注:50ohm阻抗為單端微帶線,且微帶線下方只有單張PP。

由于玻纖束的介電常數(shù)與環(huán)氧樹(shù)脂相差較大,因此板面不同位置處介質(zhì)層的介電常數(shù)存在一定的差異(如圖6和圖7所示),從而會(huì)導(dǎo)致板面不同位置阻抗產(chǎn)生差異,增加阻抗精度控制的不確定性[4]。同時(shí),同一阻抗線,由于不同位置介電常數(shù)不均勻,使TDR曲線出現(xiàn)較大波動(dòng),影響信號(hào)傳輸質(zhì)量。

由于玻璃纖維束之間存在明顯的間隙,在PCB設(shè)計(jì)、制作時(shí),信號(hào)線的介電常數(shù)具有不確定性。對(duì)于差分信號(hào)線來(lái)說(shuō),可能存在的一種情況是:差分信號(hào)線線路(D+)布在玻璃纖維束上,而線路(D-)布在玻璃纖維束的間隙上(如圖8所示),這樣會(huì)導(dǎo)致線路(D+)相比于線路(D-)來(lái)說(shuō)有著較高的有效介電常數(shù)和較低的阻抗(Z0)[2,7]。因此,當(dāng)同一對(duì)差分信號(hào)傳輸在不同介質(zhì)上(玻纖束的Er約為6,樹(shù)脂材料的Er約為3),兩根差分信號(hào)線的介電常數(shù)不一致,由于信號(hào)傳輸速度與介質(zhì)層介電常數(shù)的平方根成反比,會(huì)使兩根差分信號(hào)線產(chǎn)生不同的信號(hào)延遲,導(dǎo)致差分信號(hào)偏斜失真(如圖9所示)。有資料表明,玻纖效應(yīng)導(dǎo)致的差分偏斜失真可達(dá)3ps/inch~10ps/inch。另外,高速率數(shù)據(jù)傳輸時(shí),偏斜失真(Skew)會(huì)導(dǎo)致共模式電壓增加和相應(yīng)的差分信號(hào)降低,且產(chǎn)生的交流共模(ACCM)效應(yīng)成為系統(tǒng)里串?dāng)_(Crosstalk)和EMI的來(lái)源。

02/試驗(yàn)方法

2.1 主要材料與儀器

材料:各種規(guī)格芯板及半固化片(106、1035、1080、2116和3313)。

儀器:矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀(VNA)、金相顯微鏡。

2.2 試驗(yàn)方法

(1)玻纖效應(yīng)對(duì)阻抗波動(dòng)的影響及其改善

通過(guò)切片測(cè)試不同規(guī)格PP(1035、1078、1080、2116、3313)經(jīng)、緯向玻纖束的玻纖寬度、間距,從而為實(shí)驗(yàn)圖形設(shè)計(jì)提供依據(jù)。試驗(yàn)時(shí)設(shè)計(jì)多組單端微帶線,微帶線間距設(shè)計(jì)為玻纖束寬度基礎(chǔ)上加0.4mil,從而獲得跨在玻纖束不同位置的單端阻抗線(如圖10所示),然后測(cè)試單端微帶線的阻抗,計(jì)算不同位置介電常數(shù),并比較其差異。

試板流程設(shè)計(jì):開(kāi)料→內(nèi)層干膜→內(nèi)層蝕刻→AOI→棕化→層壓→鉆孔→去毛刺→沉銅→板鍍→負(fù)片電鍍→負(fù)片干膜→負(fù)片蝕刻→AOI→阻焊→沉金→銑板→……

(2)玻纖效應(yīng)對(duì)差分Skew的影響及其改善
玻纖布經(jīng)過(guò)開(kāi)纖處理后,表面相對(duì)平整,經(jīng)、緯紗之間的空隙更小,使PCB中玻纖與樹(shù)脂相對(duì)均勻,當(dāng)傳輸線處于玻纖束不同位置時(shí),其阻抗和損耗應(yīng)差異較小。試驗(yàn)設(shè)計(jì)多組差分微帶線,采用不同規(guī)格的玻纖布(E-Glass、扁平開(kāi)纖布及NE-Glass),確定玻纖布規(guī)格對(duì)差分Skew值的影響,并通過(guò)圖形旋轉(zhuǎn)、采用扁平玻纖布、NE-Glass玻纖改善差分Skew的效果。

試板流程設(shè)計(jì):開(kāi)料→內(nèi)層干膜→內(nèi)層蝕刻→AOI→棕化→層壓→鉆孔→去毛刺→沉銅→板鍍→負(fù)片電鍍→負(fù)片干膜→負(fù)片蝕刻→AOI→阻焊→沉金→銑板→……

03/結(jié)果與討論

3.1 不同規(guī)格PP的玻纖效應(yīng)對(duì)阻抗波動(dòng)的影響

由于玻璃纖維束之間有著明顯的間隙,信號(hào)線所處介質(zhì)層的有效介電常數(shù)是存在一定的波動(dòng)的(如圖11所示)。為了獲得不同規(guī)格PP的有效介電常數(shù)的可變性及其對(duì)阻抗的影響,本文通過(guò)采用不同規(guī)格PP,研究當(dāng)傳輸線跨在玻纖束上和置于玻纖束間隙上時(shí),介質(zhì)層的有效介電常數(shù)及傳輸線阻抗差異。

圖12是采用某廠家1080、3313和2116 PP(高Tg板材)平行于玻纖布經(jīng)緯向布線時(shí)介質(zhì)層的介電常數(shù)波動(dòng)曲線,由圖可以看出,1080、3313和2116三種規(guī)格的PP布線時(shí)有效介電常數(shù)均出現(xiàn)周期性波動(dòng),其波動(dòng)幅度高達(dá)0.6,測(cè)試表明由此帶來(lái)的阻抗波動(dòng)可高達(dá)4ohm,且不同規(guī)格玻纖有效介電常數(shù)波動(dòng)幅度存在一定的差異。同時(shí),相同規(guī)格的玻纖布,其緯向走線阻抗波動(dòng)幅度要小于經(jīng)向走線。

3.2 扁平玻纖布及NE-glass材料對(duì)阻抗波動(dòng)的改善
由于玻纖布之間間隙的存在以及經(jīng)緯向玻纖之間的疊合,會(huì)導(dǎo)致板面不同位置處阻抗產(chǎn)生差異,增加阻抗精度控制的不確定性。同時(shí),同一條阻抗線,由于不同位置處介質(zhì)層的有效介電常數(shù)是不一致的,因此TDR曲線會(huì)出現(xiàn)波動(dòng),從而影響高速信號(hào)的傳輸質(zhì)量。為了減弱玻纖效應(yīng)帶來(lái)傳輸線阻抗波動(dòng),提高信號(hào)傳輸質(zhì)量,目前常用的方法是采用扁平E-玻纖布或性能更好的NE-玻纖布。

圖13是1080和1078半固化片經(jīng)緯向走線的介電常數(shù)波動(dòng)曲線,由圖可以看出,與1080玻纖相比,采用1078扁平玻纖布片后,介質(zhì)層的介電常數(shù)波動(dòng)顯著降低,其經(jīng)向走線Dk波動(dòng)幅度由0.58降低為0.25(見(jiàn)表3)。從1080和1078半固化片走線阻抗波動(dòng)曲線也可以看出(如圖14所示),采用1078半固化片后,傳輸線的阻抗波動(dòng)明顯減弱,經(jīng)緯向走線由于玻纖效應(yīng)帶來(lái)的阻抗波動(dòng)可低至1.5ohm。

圖15分別為采用2116型半固化片(E-玻纖布和NE-玻纖布)在經(jīng)向走線時(shí)阻抗波動(dòng)情況,由圖可以看出,E-玻纖布經(jīng)向走線阻抗波動(dòng)幅度為3.17ohm,而采用NE-玻纖布經(jīng)向走線阻抗波動(dòng)幅度為1.42ohm。與E-玻纖布相比,NE-玻纖布具有更低的Dk值,且玻纖布經(jīng)過(guò)開(kāi)纖處理,玻纖之間的間隙減小,因此采用NE-玻纖布也能有效地降低阻抗波動(dòng)幅度。

3.3 玻纖效應(yīng)對(duì)差分Skew的影響

由于信號(hào)傳輸速度與介質(zhì)層介電常數(shù)的平方根成反比,同一對(duì)差分信號(hào)傳輸在不均勻介質(zhì)上時(shí),兩根差分信號(hào)線間會(huì)產(chǎn)生不同的信號(hào)延遲,從而導(dǎo)致信號(hào)偏斜失真(Skew)。對(duì)于差分傳輸線來(lái)說(shuō),微帶線和帶狀線的傳輸延遲可分別通過(guò)式2和式3進(jìn)行計(jì)算,因而差分線的偏斜失真(Skew)可通過(guò)式4計(jì)算而得。

微帶線:

(式2)

帶狀線:

(式3)

式中,tpd表示傳輸延時(shí),單位為ps/inch;εr表示板材介電常數(shù)。

(式4)

由于介質(zhì)層中經(jīng)緯向玻纖之間存在重疊和空隙區(qū)域(如圖16所示),導(dǎo)致差分傳輸線的延遲不一致。圖17是采用VNA測(cè)量1035型半固化片經(jīng)緯向走線時(shí)差分相位差曲線,由圖可以看出,當(dāng)傳輸線平行與經(jīng)緯向玻纖布線時(shí),會(huì)產(chǎn)生一定的信號(hào)延遲,對(duì)于1035玻纖來(lái)說(shuō),測(cè)量出的緯向Skew值可達(dá)0.46ps/inch,經(jīng)向Skew值可達(dá)0.43ps/inch。

3.4 差分Skew的改善

對(duì)于高速信號(hào)傳輸來(lái)說(shuō),由于差分線具有抗干擾能力強(qiáng)、有效抑制電磁干擾(EMI)、時(shí)序定位準(zhǔn)確等于優(yōu)點(diǎn),其應(yīng)用日趨增多。因此,我們需要減輕玻纖效應(yīng)對(duì)差分Skew的影響,從而減弱玻纖效應(yīng)對(duì)信號(hào)完整性(Signal Integrity, SI)的影響。

在布線設(shè)計(jì)時(shí),當(dāng)差分傳輸線的線寬與間距之和接近或等于玻纖pitch大小時(shí),理論上Skew值為0,因此可通過(guò)調(diào)整線寬/間距值改善Skew問(wèn)題,但實(shí)際上這種做法是較難實(shí)現(xiàn)的,工程師需要了解各種玻纖的pitch大小(不同廠家是不一致的),且往往不能同時(shí)滿足差分設(shè)計(jì)的要求。為了減輕玻纖效應(yīng)對(duì)信號(hào)傳輸?shù)挠绊?#xff0c;可以從以下三個(gè)方面進(jìn)行改善:(1)采用玻纖排布更加密集、間隙更小的玻纖布(如扁平E-玻纖布);(2)采用介電常數(shù)與樹(shù)脂更加接近的玻纖布(NE-玻纖布);(3)設(shè)計(jì)時(shí)進(jìn)行特殊布置與布線,使傳輸線不平行于經(jīng)緯向。

(1)采用扁平玻纖布和NE-玻纖布

與常規(guī)玻纖布相比,扁平玻纖布的玻纖束更加分散,玻纖束之間的間隙更小,介質(zhì)均勻性更好,其介電常數(shù)差異要比常規(guī)玻纖布更小,因此當(dāng)采用扁平玻纖布時(shí),玻纖效應(yīng)帶來(lái)的差分Skew要更小。圖18分別為使用扁平1078玻纖和常規(guī)1080玻纖的相位差曲線,由圖可以看出,相比于1080玻纖,使用1078玻纖時(shí)兩根差分線的相位差顯著降低。通過(guò)測(cè)試相位差結(jié)果,計(jì)算出1078 PP時(shí)的Skew為0.65 ps/inch,而1080 PP的Skew值為1.91 ps/inch。

此外,當(dāng)使用介電常數(shù)與樹(shù)脂更加接近的NE-玻纖布時(shí),亦能降低玻纖效應(yīng)對(duì)差分信號(hào)的影響。圖19是采用常規(guī)2116玻纖布和低介電常數(shù)2116玻纖布的差分線相位差結(jié)果,由圖可以看出,相比于常規(guī)2116玻纖布,NE-玻纖布的相位差大大降低。測(cè)試結(jié)果表明,同樣為2116規(guī)格PP,采用NE-玻纖布時(shí),差分Skew值為0.34 ps/inch,采用E-玻纖布時(shí),Skew值為1.21 ps/inch。

(2)圖形旋轉(zhuǎn)

為了減輕玻纖效應(yīng)的影響,還可以調(diào)整布線的方向,使之不與板邊緣相平行,或者進(jìn)行輻射狀的走線,從而避免線路平行于經(jīng)緯向玻纖。通過(guò)不斷調(diào)整傳輸線相對(duì)玻纖束的位置,將傳輸線走線方向與纖維交織成一定角度(如圖20所示),可以使玻纖交織效應(yīng)達(dá)到平均,理論上來(lái)說(shuō),將走線與板邊呈45o走線可使影響降到最小。但考慮到板材利用率問(wèn)題,須盡量減小旋轉(zhuǎn)角度,有研究表明,將傳輸線走線方向旋轉(zhuǎn)1-2o即可有效地減輕問(wèn)題,而小到5-10o的旋轉(zhuǎn)就足以緩解大部分的空間效應(yīng)[2]。在進(jìn)行布線設(shè)計(jì)時(shí),旋轉(zhuǎn)角度可采用式6進(jìn)行計(jì)算,傳輸線長(zhǎng)度為1 inch時(shí),需要旋轉(zhuǎn)的角度為2.3o,即傳輸線與玻纖成2.3o以上角度時(shí)即可解決差分線Skew問(wèn)題。

(式5)

(其中,θ—旋轉(zhuǎn)角度;L—差分線長(zhǎng)度;H—玻纖pitch大小,要求H≥2×pitch)

圖21為采用常規(guī)2116玻纖布平行走線和將圖形旋轉(zhuǎn)時(shí)差分相位差曲線,從結(jié)果來(lái)看,將圖形旋轉(zhuǎn)5-15o后玻纖效應(yīng)引起的差分Skew大大降低。考慮到拼板利用率問(wèn)題,在實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中,將圖形選擇5o即可解決大部分玻纖效應(yīng)引起的差分Skew問(wèn)題。

除了在設(shè)計(jì)時(shí)進(jìn)行圖形旋轉(zhuǎn)外,還可以在制造過(guò)程中讓覆銅板及PP供應(yīng)商提供旋轉(zhuǎn)的原始材料,或者PCB制造商在開(kāi)料時(shí)旋轉(zhuǎn)板材(會(huì)開(kāi)料利用率降低),同樣可以有效地解決差分Skew問(wèn)題。

(3)S型走線

除了上述方法外,在布線設(shè)計(jì)時(shí)還可以進(jìn)行特殊布置,使傳輸線不平行于玻纖布經(jīng)緯向,如采用S型走線或Z字型走線(如圖22所示)。圖23是采用不同走線方式(平行走線、S型走線)和旋轉(zhuǎn)圖形時(shí)差分線相位差結(jié)果,由圖可知:相對(duì)平行走線,S型(弧度為45o)走線可在一定程度上改善差分Skew,但相比圖形旋轉(zhuǎn),S型走線改善效果相對(duì)較差。

4結(jié)論

PCB基材中所用的玻纖布帶來(lái)的玻纖效應(yīng)會(huì)導(dǎo)致板面不同位置處阻抗線及同一阻抗線阻抗波動(dòng)大的問(wèn)題,且介質(zhì)不均會(huì)造成線路信號(hào)傳輸速度不一致,從而導(dǎo)致差分Skew產(chǎn)生。

(1)阻抗波動(dòng):采用不同規(guī)格PP時(shí)阻抗波動(dòng)幅度存在差異,通過(guò)采用扁平玻纖布或NE-glass玻纖布對(duì)改善阻抗波動(dòng)效果明顯,且NE-glass效果更佳。

(2)差分Skew:差分Skew受PP規(guī)格、線寬/間距影響,線寬/間距之和越接近玻纖布Pitch尺寸,Skew越小;采用扁平玻纖布、NE-Glass玻纖布及S型走線設(shè)計(jì)可減小差分Skew,但不能從根本上解決差分Skew問(wèn)題,圖形旋轉(zhuǎn)是最直接有效的方法。

(3)采用扁平玻纖布改善阻抗波動(dòng)效益最高,如只要求解決差分Skew問(wèn)題,可通過(guò)圖形旋轉(zhuǎn);如需同時(shí)控制阻抗波動(dòng)與差分Skew,可通過(guò)采用扁平玻纖布加圖形旋轉(zhuǎn)方法實(shí)現(xiàn)。

總結(jié)

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