我國芯片受西方國家打壓后，明白了光刻機的重要性，但是光刻機作為這個時代頂尖的科技產品，并不是那么容易造出來的。

首先，光刻機的投影物鏡被譽為成像光學的最高境界，其波像差需要控制到亞納米量級，接近零像差。這個“零像差”是大視場、高數值孔徑、短波長條件下的“零像差”，是在曝光過程中投影物鏡持續受熱狀態下的“零像差”。實現這個“零像差”對投影物鏡的鏡片級檢測、加工、鍍膜，系統級的檢測、裝校，以及投影物鏡像差的在線檢測與控制都提出了極為嚴苛的要求。

光刻機整機與分系統匯聚了光學、精密機械、控制、材料等眾多領域大量的頂尖技術。很多技術需要做到工程極限。另外，光刻機各個分系統、各個子系統要在整機的控制下協同工作，達到最優的工作狀態，才能滿足光刻機嚴苛的技術要求。

世界上最先進的光刻機當屬荷蘭的ASML，但是目前連它本身有很多零部件他們自己也無法生產，很多高端零部件都是從美國、德國、日本等國家進口的，比如目前ASML的鏡頭是由德國的蔡司提供，電源是由美國的一家公司提供。

簡單來說目前國產光刻機很多部件工藝達不到，這也是德國工程師所說那樣給你們全套圖紙你們也做不出來。他所說這句話就是基于我們很多部件工藝達不到，想要制造高端光刻機，相應的部件工藝就要達到一定水平。而目前卡住的正是部件生產工藝，國內相關部件工藝達不到。

而我國受到美國的技術封鎖影響，我國目前想要自研出高端光刻機是相當困難的。世界上很多國家雖然有足夠先進的芯片技術，但是大多不愿意與中國進行相關方面的交流。不僅如此，他們甚至直接明令禁止，不可以向中國出售高尖端芯片，包括ASML的高端光刻機，這就使得我國的芯片技術以及光刻機生產一直得不到很好的進展。

由此可見，作為目前地球上最頂尖的設備之一，光刻機技術不是一年半載就能夠制造出來的，它的制造需要有長時間的技術積累和沉淀，同時需要有多個國家和企業的共同合作才有可能完整。

總結

以上是生活随笔為你收集整理的光刻机的技术难在哪里 给你图纸都造不出来的全部內容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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