IEEE Spectrum 發表文章介紹了2020 年度 IEEE 榮譽獎章得主胡正明博士。IEEE 榮譽獎章是 IEEE 的最高榮譽，此前有兩位華人贏得該獎章：分子束外延技術之父卓以和，以及臺積電創始人張忠謀。

　　 摩爾定律預言大約每隔兩年集成電路上的晶體管數量都會增加一倍。隨著晶體管越來越小，摩爾定律將不再能無限繼續下去。而早在 1995 年，摩爾定律就被認為即將終結。美國政府對此也憂心忡忡，國防部高級研究計劃署 DARPA 為此啟動了一個項目，尋找新的芯片技術延長摩爾定律。

　　加州伯克利的電機工程和計算機科學教授胡正明加入了這一挑戰。他立即想出了兩個方案，其一就是將晶體管三維化的 FinFET 技術。胡正明在臺灣長大，他喜歡化學，但并沒有申請國立臺灣大學的化學系，而是電機工程系，他當時并不知道電機工程是做什么的，選擇電機工程只是因為它的分數要求更高，對他而言這是一項挑戰。

　　他職業生涯最初沒有從事半導體，因為 1973 年的石油危機，他一開始研究太陽能電池和混動汽車等能源相關項目，1980 年代回到半導體研究。他在團隊在 2000 年就完成了 FinFET 的研究，但直到 2011 年這項技術才真正被英特爾使用。胡正明解釋說，當時的芯片技術還不需要大刀闊斧的改變，沒壞之前你是不會去修的。當芯片工藝低于 25 納米之后，FinFET 逐漸扮演了越來越重要的角色。胡正明在 2001 年至 2004 年之間短暫的擔任了臺積電的首席技術官。

總結

以上是生活随笔為你收集整理的FinFET 之父如何帮助拯救摩尔定律的全部內容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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