日前IEEE電子電器工程師協會宣布，FinFET晶體管發明人胡正明（Chenming Hu）獲得了2020年的IEEE 榮譽獎章，這是IEEE協會的最高獎勵，這一技術使得摩爾定律延壽了數十年。

自從1965年，Intel聯合創始人戈登·摩爾提出“摩爾定律”以來，半導體工藝一直按照這個規律發展，2年提升一倍的晶體管密度。

不過摩爾定律原本應該終結了，因為按照之類的發展，傳統硅基半導體工藝制造難度越來越大，特別是在28nm工藝之后。

胡正明教授在這個問題上貢獻很大，他于1999年發明了FinFET晶體管，也叫鰭式晶體管或者3D晶體管，就是因為晶體管的形狀與魚鰭的相似性。

FinFET晶體管的設計可以改善電路控制并減少漏電流，縮短晶體管的閘長，FinFET閘長已可小于25nm，未來預期可以進一步縮小至9nm，約是人類頭發寬度的1萬分之1。

Intel在2012年正式量產了3D晶體管技術，首發的是22nm工藝，當時臺積電、三星還停留在28nm工藝上，之后在16/14nm節點上他們才進入了FinFET晶體管時代。

從這一點上來說，胡正明教授發明的FinFET技術不僅拯救了摩爾定律，Intel、AMD、NVIDIA、蘋果、華為、高通、三星等半導體行業的公司都受益于胡正明教授的發明。

總結

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