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飞跃式突破!第一台28nm国产光刻机交付在即

發(fā)布時(shí)間:2023/11/22 综合教程 40 生活家
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據(jù)媒體報(bào)道,上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司披露,將在2021-2022年交付第一臺(tái)28nm工藝的國(guó)產(chǎn)的沉浸式光刻機(jī)。

雖然這與當(dāng)今國(guó)際頂尖的7nm乃至是5nm光刻機(jī)還有數(shù)代的隔閡,但是差距已經(jīng)大大縮小,畢竟在此之前國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)還是90nm。

據(jù)悉,上海微電子是國(guó)內(nèi)技術(shù)最領(lǐng)先的光刻設(shè)備廠商,從低端切入各個(gè)細(xì)分市場(chǎng),現(xiàn)已成為封測(cè)龍頭企業(yè)的重要供應(yīng)商,國(guó)內(nèi)市場(chǎng)占有率高達(dá)80%,全球市場(chǎng)占有率也有40%,同時(shí)旗下LED/MEMS/功率器件光刻機(jī)性能指標(biāo)領(lǐng)先,LED光刻機(jī)市占率第一。

上海微電子現(xiàn)有4大系列的光刻機(jī)產(chǎn)品,其中600系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)面向IC前道制造,采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù),以及高速高精的自減振六自由度工件臺(tái)掩模臺(tái)技術(shù),可用于90nm、110nm、280nm工藝和200mm、300mm晶圓生產(chǎn)。

500系列面向IC后道先進(jìn)封裝,300系列面向LED、MEMS、功率器件制造,200系列面向TFT曝光。

總結(jié)

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