一個 95 后小伙的“自制光刻機”視頻，引起一眾網友“狂歡”。

　　近日，大連理工大學化工學院的大一學生彭譯鋒、B 站 UP 主“DUT-home_lab”，發表了題為《自制光刻機微納加工 75µm工藝》的視頻。

　　他聲稱自己用一張圖紙搭建出一臺納米級光刻機，并光刻出 ~75µm（75000 nm）的孔徑。
截止 7 月 11 日下午，視頻已有近 24 萬播放量。

圖｜該視頻播放量接近24 萬，圖中人物為彭譯鋒

　　國內一家自媒體以《95 后 up 主低成本 DIY 納米級光刻機！一圖紙一書桌研究半年，挑戰芯片制造最難環節》的標題，對該視頻進行了報道。

　　隨后，該報道被另一家媒體以《低成本 DIY 納米級光刻機！這位 95 后男生火了…》的標題進行轉載，文末留言中不乏“國家需要這種人才”“沒看懂，但是感覺很厲害”等贊譽之詞。

　　同日，大連理工大學化工學院的微信公眾號，就該同學的實驗視頻，發布了以《挑戰低成本 DIY 納米級光刻機！人民網點贊這位化工小伙！》為標題的報道。　　

圖｜大連理工大學化工學院的微信公眾號的報道

　　以上報道發出后不久，涉事視頻在國內某知名問答社區遭到“瘋狂打假”。

　　目前，該校發布的報道顯示“已被發布者刪除”。彭譯鋒發在 B 站的視頻，也已無法查看。

　　多名專業人士都認為，視頻中的實驗，違背了光刻機的工作原理。美國某量測設備供應商技術專家、新加坡南洋理工大學微電子專業博士李楊，正是上述問題的回答者之一。

　　DeepTech 聯系到李楊，他分析了視頻中的幾處錯誤。

　　完全談不上“自制光刻機”

　　視頻中，彭譯鋒用一張照片，來作為設計圖紙。李楊認為，拿照片當圖紙去做“光刻機”，不只是不當、而是荒謬。

　　他說自己作為經過專業訓練的前科研工作者，通過照片也只能確定照片中的光刻機，是德國 Karl Suss 公司的接觸式光刻機，具體型號則無法辨別，而這位同學竟然說能通過一張照片仿造出光刻機？而他之所以能認出照片中的光刻機，是因為在過往從業經驗中，他已經非常熟悉該公司產品。但對于一般人來說，彭譯鋒手持的照片，真的就只是一張照片，并不能稱之為圖紙。

　　通過這張照片，一般人很難看出光刻機各部件的尺寸、光源和光路等信息，更無法判斷這臺光刻機用的是透鏡、還是反射鏡，也無法判斷出這臺光刻機，是如何設計對板系統、以及如何操作光強測量校準等。

圖｜彭譯鋒把照片作為圖紙（來源：B 站）

　　某知名國際半導體公司的高級光刻技術工程師陳歐文（化名）認為，彭譯鋒視頻里的“光刻機”，就是直接從網上買來激光雕刻機成品，然后進行了組裝。

　　只不過激光雕刻機，是在其他材料上進行雕刻，而彭譯鋒則是使用激光束，對光刻膠進行曝光，然后顯影出圖形來。

圖｜陳歐文表示視頻中的光刻機，淘寶就能買到

　　具體到分辨率上，和激光雕刻其他材料沒有差別，也沒有任何實用的技術點。并且，激光雕刻機嚴格意義上并不算是光刻機，所以完全談不上自制光刻機。

　　違背光刻機工作原理

　　李楊還認為，彭譯鋒的視頻，肯定沒有使用光刻機工作原理。光刻技術的核心，是把光刻掩膜版上的圖形，轉移到硅晶圓上。

　　早期的接觸式和接進式光刻機，其圖形是按照大小比例 1：1 轉移到硅晶圓。

　　而光刻機發展到投影式，掩膜版上的圖形是按照 4：1 或者 5：1 的比例轉到硅晶圓。彭譯鋒做的所謂“光刻機”，光路只有激光光源，既沒有掩膜版，也沒有光學透鏡組。

　　由于他是自己動手 DIY，受限于成本原因，他無法購買昂貴的透鏡，這固然可以理解，但如果投射到硅晶圓上圖形，只是激光光源的光斑，那就不是光刻，而只是簡單的曝光。

　　繞過光刻掩膜版，討論關鍵尺寸是毫無意義的，因為這根本不是光刻工藝需要完成的關鍵尺寸，所以也談不上任何技術難度。

　　在視頻中，彭譯鋒稱自己“光刻出 ~75µm（75000nm）的孔徑”，但是利用光源光斑，甚至能搗鼓出 50µm 或 20µm，但是沒有任何用處。因此在這種情況下，討論實現了多少納米，根本無從談起。

圖｜彭譯鋒稱自己“光刻出 ~75µm（75000nm）的孔徑”

　　75um 工藝放在 50 年前都很落后

　　李楊表示，在當下半導體行業，Logic 工藝（該工藝是集成電路制造領域最為困難的部分）最先進的是三星和臺積電，這兩家公司已經量產 5nm 技術，并且正在攻堅 3nm 技術。

　　而 75µm 是 5nm 技術的 1.5 萬倍、是 3nm 技術的 2.5 萬倍。

　　當前，中國國產芯片的“扛把子”中芯國際，已經可以量產 14nm 的芯片，這樣來算，當前中國最先進的芯片技術，是彭譯鋒實現的“75µm 工藝”的 5375 倍。

　　“75µm 工藝”有多么落后呢？以摩爾定律的技術路線圖為例，從上面根本找不到 75µm的位置。

圖｜摩爾定律路線圖

　　陳歐文也告訴 DeepTech，早在 1971 年，英特爾就已發布首款微處理器 4004，并采用 10μm PMOS 技術生產。

　　目前市面上能買到的手機的處理器，比如麒麟 990、高通驍龍 865 等，都已使用 7nm 制程工藝，也就是比 75um 小一萬倍的工藝。可以說，75um 放在 50 年前都不是先進工藝。

　　校友發言：很少有人認為學校宣傳有問題

　　DeepTech 采訪到彭譯鋒的校友——大連理工大學化學學院大三學生劉明蒿（化名），她表示，制備半導體在化學領域，也是一個熱門方向，這可能是彭譯鋒“自研光刻機”的原因。

　　針對該視頻，她說校內老師們目前還沒有表態。在該校公眾號報道了彭譯鋒的視頻后，很多師生還轉發上述文章，并借機給學校做宣傳。

　　7 月 11 日下午，DeepTech在 B 站上聯系彭譯鋒，問他如何看待外界對于視頻的質疑，他僅回復四個字：“玩具來的”。同日，該視頻已經從 B 站刪除。

　　對于該視頻，前文的美國某量測設備供應商技術專家李楊表示，在校學生動手創造值得肯定，學生的想法和動手能力，當然不能被扼殺，但前提是原理不能出錯。不然就會畫虎不成反類犬，且會誤導更多不明真相的人。
西南交通大學信息學院電子工程系副系主任邸志雄博士則認為，從作品實際效果來看，該同學連光刻技術的入門門檻，都沒有摸到。

　　他對于正膠、負膠等沒有基本概念，也分不清楚光刻技術、刻蝕技術和激光雕刻的區別。但對于二十來歲的大一學生來說，視頻中的實驗難度，遠大于課堂上的實驗，他不僅敢想敢做，并能利用現有局限條件，實現出一個基本模型，工作完整性和可演示性也都尚可。

　　在他知識體系有限的情況下，做成這樣已經很優秀，不能過于苛責。實驗本身，也可以吸引更多人關注光刻機技術。如果他能夠提升知識體系和科研素養，未來一定可期。

　　清華大學新聞與傳播學院教授、博士生導師沈陽也認為，首先要鼓勵年輕人積極探索科學實驗，這有助于全民科學素養的提升。

　　他舉例稱，美國已經有高中生在家做核試驗，中國在此還有很大提升空間。不管是在學校、在研究機構還是在家，都應鼓勵年輕人挑戰創新型科學實驗。

　　從本質上說，科學研究服務于個人興趣，只有真正對它感興趣、才能做到極致。所以要提倡青少年基于興趣，來展開科學實驗，而非基于某一技術是否是當下的“網紅技術”來做實驗。

　　國產光刻機應冷靜對待現狀

　　光刻機技術，是當前中國的“卡脖子”技術之一，某知名國際半導體公司的高級光刻技術工程師陳歐文認為，國人應該靜下心來、去研發真正可以投入實用的產品。

　　類似本次視頻發布之后，部分媒體的“放衛星”行為，則會鼓吹不正之風，而一些公司、科研單位和院校也樂于借助國內光刻機困境博眼球。

　　但是，一定要認清現狀。目前中國僅有的一家光刻機研發公司，是上海微電子裝備（集團）股份有限公司（簡稱 SMEE）， 雖然和業界頂尖的 ASML 差異巨大，但是已經是可以做到 90nm 水平，并且有成品發布。

圖｜SMEE 的光刻機（來源：SMEE 官網）

　　陳歐文表示，荷蘭光刻機公司 ASML 早已領先業界，國內光刻機研發僅有上海微電子一家，且該公司成立僅 18 年，并沒有多少積累，國家也沒有給予較多重視。網傳上海微電子十年間研發經費只有 6 億，而 ASML 的一臺高端光刻機，售價就是 6 億。

　　但陳歐文認為，這總比沒有強，雖然也有報道稱上海微電子的光刻機、已經應用在國內晶圓廠，但應該只是一種合作試用，還談不上賣出去。

　　如果國內晶圓廠，真的能把上海微電子的光刻機使用起來，雖然性能比較低，但通過在使用過程中發現問題、然后進行升級迭代，也會非常有利于國產光刻機研發。

　　歐洲半導體設備供應商 EVG 合作伙伴技術應用經理魏宏亮也認為，相比國外光刻機公司，中國應加強和使用端客戶的互動，在工藝中不斷完善和提升。具體來講，中國光刻機中的合金、光刻膠、備件、光路系統等材料，仍需快步追趕。

　　對于本次出現的夸張報道，清華大學新聞與傳播學院教授、博士生導師沈陽認為，媒體在報道時，既要報道這類青少年參與科研的熱情，同時也要報道實驗中的不足。如果媒體沒有分辨能力，則需引入專業人士進行點評。

　　只有這樣，才不會引起輿論泡沫，也有利于培養青少年的科學素養，并引導他們抱持理性態度搞科研。
創新素養的培養，是一個長期過程，不可能一蹴而就。而這種報道所引起的、網友“一哄而上”的浮夸之風，反而會損害青少年的科技創新。

　　-End-

總結

以上是生活随笔為你收集整理的95后UP主“自制光刻机”，媒体夸大报道后遭行业专家“打假”的全部內容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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