光刻機，在整個芯片生產(chǎn)制造環(huán)節(jié)，是最最最核心的設備，技術難度極高。

現(xiàn)在，一個難得的好消息是，光刻機可以進口了，并且美國無需限制。

而這個底氣是半導體巨頭、全球光刻機領頭企業(yè)荷蘭的阿斯麥爾(ASML)給中國的。

10月14日，ASML首席財務官羅杰·達森（RogerDassen），對向中國出口光刻機的問題作出了表態(tài)。他表示：

ASML可以從荷蘭向中國出口DUV（深紫外）光刻機，無需美國許可。

這無疑給了中國半導體行業(yè)新的希望。

但別高興太早。

ASML方面也提到：

此外，從ASML的表態(tài)中也可得知，除了允許進口DUV光刻機外，并未提到更先進的EUV（極紫外）光刻機。

盡管如此，這對于中國半導體行業(yè)來說都是一件極大的幸事了。

ASML為什么有底氣進口DUV光刻機給中國？

RogerDassen解釋說：

也就是說，美國僅僅是限制了美國不能給中國出口芯片、光刻機等，但并沒有限制其他國家對中國進口，荷蘭并不在美國的禁令范圍內(nèi)。

但如果相關系統(tǒng)或零件是從美國出口的，這就另當別論了。

同時他也表示ASML將盡最大努力，盡可能為所有客戶繼續(xù)提供服務和支持。

值得注意的是，當天也是ASML發(fā)布新一季度財報的日子，我們從其財報中也看到了ASML出口光刻機的一些原因。

ASML第三季度財報顯示，ASML當季總共銷售60部光刻系統(tǒng)，凈銷售額為40億歐元，凈收入11億歐元，毛利率達到了47.5%，營收攀升至39.58億歐元，其中，中國占據(jù)21%的份額。

前九個月銷售業(yè)績高達97.24億歐元（約合人民幣770億元），同比大增近25%。其中，來自高端EUV光刻機的收入占比達到了總收入的66％。

此外，ASML還十分看好中國市場。海關總署數(shù)據(jù)顯示，今年1-8月，我國累計進口了3334.6億美元的集成電路，同比大增22.5%。

據(jù)南方新聞網(wǎng)報道，在9月17日的中國集成電路制造年會上，ASML全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波透露，截至當前，中國已經(jīng)實現(xiàn)了700多臺ASML光刻機的裝機，幾乎所有芯片生產(chǎn)商都購買過該公司的服務。

中國對于ASML來說實在是一個大市場。

而ASML也一直對中國市場有擴張野心。

在第23屆中國集成電路制造年會(CICD2020)暨廣東集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇上，ASML全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波就表示：

此外，資料顯示，2000年，ASML在中國天津正式成立大陸地區(qū)的第一個辦公室，迄今為止在中國大陸12個城市有辦事處或分支機構，分別為天津、上海、北京、無錫、武漢、西安、大連、南京、廈門（晉江）、合肥、深圳、廣州。

可以說從一線城市到二三線城市都有ASML的布局。在中國受美方的打壓下，ASML卻在加速中國市場的布局。

這又是一個值得思考的問題。

聽聞這一消息，網(wǎng)友也紛紛表態(tài)。

在他們看來，中國真正需要的是EUV光刻機，ASML這一做法并不能解燃眉之急，當務之急還是要自力更生。

為什么這么說呢？

我們先來看下DUV和EUV之間的區(qū)別。

目前的光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。

DUV光刻機，分為干分式與液浸式兩種。其中，液浸式于ASML手中誕生，其波長雖然有193nm，但等效為134nm，經(jīng)過多重曝光后，液浸式光刻機也能夠達到7nm工藝。但是，每多一次曝光都會使得制造成本大大提升，而且良品率也難以控制。

而EUV光刻機采用13.5nm波長的光源，是突破10nm芯片制程節(jié)點必不可少的工具。也就是說，就算DUV（深紫外線）光刻機能從尼康、佳能那里找到替代，但如果沒有ASML的EUV光刻機，芯片巨頭臺積電、三星、英特爾的5nm產(chǎn)線就無法投產(chǎn)。

EUV的重要性可想而知。

這也進一步證明了EUV的重要性。

那么，國內(nèi)光刻機的發(fā)展現(xiàn)狀如何呢？

根據(jù)百度百科的解釋，一臺光刻機由上萬個部件組成，有人形容稱這是一種集合了數(shù)學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、機械、自動化、軟件、圖像識別領域頂尖技術的產(chǎn)物。

而一臺光刻機的售價從數(shù)千萬美元高至過億美元，可見光刻機的重要性。

在全球范圍內(nèi)，光刻機市場幾乎被3家廠商瓜分：荷蘭的阿斯麥（ASML）、日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）。

在這3家中，ASML又是當之無愧的一哥。據(jù)中銀國際報告，阿斯麥全球市場市占率高達89%，其余兩家的份額分別是8%和3%，加起來僅有11%。在EUV光刻機市場中，ASML的市占率則是100%。

而中國對于光刻機的制造幾乎還在起步階段。

但近年來，國家加大了對半導體行業(yè)的投入。

2019年4月，武漢光電國家研究中心甘棕松團隊，采用二束激光，在自研的光刻膠上，突破光束衍射極限的限制，并使用遠場光學的辦法，光刻出最小9nm線寬的線段。

2020年初，中科院對外宣稱已經(jīng)攻克了2nm工藝的難題，相關研究成果已經(jīng)發(fā)布到國際微電子器件領域的期刊當中。

5月19日，上海微電子裝備（集團）股份有限公司稱，其自研的高亮度LED步進投影光刻機，是中國首臺面向6英寸以下中小基底先進光刻應用領域的光刻機產(chǎn)品，已從1200多個申報項目中成功突圍，入選“上海設計100+”。

10月15日，南京集成電路產(chǎn)業(yè)服務中心副總經(jīng)理呂會軍向媒體證實中國將建立一所南京集成電路大學，專門培養(yǎng)實踐型芯片研發(fā)人才，以加速芯片的國產(chǎn)化。

同時，對于國內(nèi)的光刻企業(yè)還要給予耐心，不能急功近利。

總結

以上是生活随笔為你收集整理的无需美国许可！光刻机巨头ASML给中国开绿灯：DUV随便、EUV受限的全部內(nèi)容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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