光敏印章是上個(gè)世紀(jì)九十年代初由日本發(fā)明的，它是由一種特殊的化工合成材料，通過(guò)專(zhuān)用設(shè)備瞬間發(fā)出強(qiáng)光輻射，使材料表面發(fā)生光氧化及熱交聯(lián)作用從而制成的印章。基本原理是利用特殊材料的感光性，在印章表面不需要印跡的地方形成一層不能滲透的膜，從而達(dá)到印章的效果。印油通過(guò)光敏平面橡膠滲透，因此，使用光敏印章制作印章速度快。光敏印章的工藝特點(diǎn)是印面相對(duì)比較平整，印面字跡是由光敏橡膠墊上的微孔組成的，印油在壓力作用下，通過(guò)印面文字微孔滲出形成印文。光敏印章印跡清晰，字跡的干涸時(shí)間短，附著力強(qiáng)，具有較強(qiáng)耐水性。成品外形美觀、結(jié)構(gòu)合理。使用次數(shù)為2-3萬(wàn)次。

總結(jié)

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