AMD的Zen3处理器小惊喜曝光:终于上EUV光刻工艺了?
AMD的銳龍5000系列處理器下月初就要上市了,全新的Zen3架構(gòu)IPC性能大漲,不過(guò)工藝上面依然是7nm級(jí)別的,
最早的傳聞中,AMD的Zen3工藝說(shuō)是要上7nm EUV工藝的,這是臺(tái)積電三種7nm工藝版本之一,與其他兩種工藝相比,它會(huì)使用EUV光刻機(jī),光刻處理效率更高。
在Zen3是否會(huì)上EUV工藝的問題上,AMD官方的態(tài)度一直很模糊,只強(qiáng)調(diào)是改良版的7nm工藝,官方路線圖中直接去掉了EUV的痕跡。
不過(guò)臺(tái)灣媒體日前提到,AMD的Zen3這次使用的7nm工藝中是有EUV光刻工藝的,不過(guò)只使用了四層EUV光刻,并不多。
當(dāng)然,這個(gè)說(shuō)法還有待AMD證實(shí),在這個(gè)問題上AMD的態(tài)度也比較含蓄,路線圖上不提EUV的,但官方也沒有徹底針對(duì)EUV工藝發(fā)表否認(rèn)說(shuō)法,似乎很敏感。
對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō),7nm EUV工藝只是試水,不會(huì)使用太復(fù)雜的EUV光罩,5nm開始會(huì)逐漸增加,EUV層數(shù)直接提升到14層,3nm則會(huì)提升到20層,未來(lái)會(huì)逐漸取代負(fù)責(zé)的多重曝光工藝。
總結(jié)
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