6月7日訊，在華為重磅發(fā)布HarmonyOS 2（鴻蒙操作系統(tǒng)）的當(dāng)天，天眼查顯示，華為旗下的哈勃投資公司開(kāi)始投資光刻機(jī)領(lǐng)域了，入股了由中科院微電子所控股的北京科益虹源公司。

公開(kāi)信息顯示，北京科益虹源光電技術(shù)公司的控股股東是中科院微電子所，持股26.6%，主要業(yè)務(wù)就是光刻機(jī)中的三大核心技術(shù)之一的光源系統(tǒng)，是國(guó)內(nèi)第一、全球第三的193nm ArF準(zhǔn)分子激光器企業(yè)。

光刻膠板塊最近幾日表現(xiàn)比較強(qiáng)勢(shì)，近兩周累計(jì)漲幅接近15%。

方正證券指出，光刻機(jī)作為前道工藝七大設(shè)備之首（光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、鍍膜設(shè)備、量測(cè)設(shè)備、清洗機(jī)、離子注入機(jī)、其他設(shè)備），價(jià)值含量極大，在制造設(shè)備投資額中單項(xiàng)占比高達(dá)23%，技術(shù)要求極高，涉及精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、高精度環(huán)境控制等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)。光刻機(jī)是人類(lèi)文明的智慧結(jié)晶，被譽(yù)為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠。

方正證券認(rèn)為，目前全球前道光刻機(jī)被ASML、尼康、佳能完全壟斷 ,CR3高達(dá)99%。在當(dāng)前局勢(shì)下，實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)的國(guó)產(chǎn)替代勢(shì)在必行，具有重大戰(zhàn)略意義。在02專(zhuān)項(xiàng)光刻機(jī)項(xiàng)目中，設(shè)定于2020年12月驗(yàn)收193納米ArF浸沒(méi)式DUV光刻機(jī)，其制程工藝為28納米。考慮到此項(xiàng)目作為十三五目標(biāo)，未來(lái)具有較大的明確性，結(jié)合 28nm作為當(dāng)前關(guān)鍵技術(shù)節(jié)點(diǎn)的性能和技術(shù)優(yōu)勢(shì)，光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)替代將迎來(lái)新的曙光。

方正證券陳杭建議關(guān)注光刻產(chǎn)業(yè)鏈，一是光刻機(jī)核心組件：負(fù)責(zé)整體集成的上海微電子、負(fù)責(zé)光源系統(tǒng)的科益虹源，負(fù)責(zé)物鏡系統(tǒng)的國(guó)望光學(xué)，負(fù)責(zé)曝光光學(xué)系統(tǒng)的國(guó)科精密，負(fù)責(zé)雙工作臺(tái)的華卓精科，負(fù)責(zé)浸沒(méi)系統(tǒng)的啟爾機(jī)電；二是光刻配套設(shè)施：包括光刻膠，光刻氣體，光掩模版，光刻機(jī)缺陷檢測(cè)設(shè)備，涂膠顯影設(shè)備等。

總結(jié)

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