台积电宣布N4P高性能工艺:4nm?其实又是5nm
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台积电宣布N4P高性能工艺:4nm?其实又是5nm
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臺積電今天宣布了一個新的制程工藝節(jié)點“N4P”——看起來是4nm,但其實是5nm的又一個版本,確切地說是N5、N5P、N4之后的第四個版本、第三個升級版,注重高性能。
臺積電稱,N4P工藝相比最初的N5工藝可提升11%的性能,或者提升22%的能效、6%的晶體管密度,而對比N4可將性能提升6.6%。
此外,N4P工藝會重復(fù)使用多層遮罩,因此可大大降低工藝復(fù)雜度,加快晶圓生產(chǎn)速度。
臺積電稱,N4P工藝是為客戶5nm工藝平臺產(chǎn)品升級準(zhǔn)備的,不但可以最大化挖掘投資價值,還可以更快、更高效地升級N5工藝產(chǎn)品。
臺積電表示,第一款基于N4P工藝的產(chǎn)品預(yù)計2022年下半年流片。
臺積電此前披露,N3 3nm工藝將在今年內(nèi)風(fēng)險性試產(chǎn),2022年下半年大規(guī)模量產(chǎn),2023年第一季度獲得實際收入,N3E 2024年量產(chǎn),
總結(jié)
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