走,到太空造芯片
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9 月 16 日消息,將半導(dǎo)體工廠搬到太空去,固然聽起來像是科幻小說中的情節(jié),而在不久的將來將真正成為現(xiàn)實。
在太空中生產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)品有著諸多優(yōu)勢,尤其是生產(chǎn)基于 3D 氧化物的可變電阻式存儲器(RRAM),可以明顯縮短在地球上的生產(chǎn)周期、降低生產(chǎn)成本。
3D 半導(dǎo)體器件和傳統(tǒng) 2D RAM 器件的不同之處在于,并非采用傳統(tǒng)的平坦布置,而是一層層地堆疊存儲單元,從而允許在單個器件中具有更小的占用面積和更多的存儲器存儲。
該項目主要參與者包括網(wǎng)名“Daphne”的 Ying-Chen Chen,目前已經(jīng)聯(lián)合學(xué)術(shù)界和工業(yè)界,共同制定在太空中建造半導(dǎo)體器件的藍(lán)圖。她是亞利桑那州立大學(xué)富爾頓工程學(xué)院的教授,也是這項 NASA 研究的聯(lián)合主要研究者。
該項目由 CHIPS 法案和美國宇航局的 In Space Production Applications 項目資助。
該項目由首席研究員、NASA 高級材料工程師柯蒂斯?希爾(Curtis Hill)領(lǐng)導(dǎo),利用太空失重環(huán)境下簡化甚至完全繞過蝕刻步驟。注:蝕刻是在芯片表面加深溝槽以為其導(dǎo)電金屬觸點留出足夠空間的一步。
科學(xué)家表示在地球環(huán)境下,由于要補償來自重力的壓力,半導(dǎo)體芯片薄膜材料層通常比較厚,因此需要進(jìn)行蝕刻;而在太空失重環(huán)境下,可以在太空中使用更薄的薄膜層,從而在制造過程中形成足夠深的溝槽,從而可以繞過蝕刻步驟。
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總結(jié)
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