1月19日，全球光刻機(jī)巨頭ASML公布了最新的財(cái)報(bào)，其2021年第4季度及2021全年業(yè)績(jī)均創(chuàng)歷年新高且優(yōu)于預(yù)期。

2021年?duì)I收186億歐元，毛利率高達(dá)52.7%根據(jù)財(cái)報(bào)顯示，ASML 2021年第4季營(yíng)收為49.86億歐元，凈利潤(rùn)為17.74億歐元，毛利率達(dá)54.2%。新增訂單金額為70.50億歐元。

2021年全年?duì)I收達(dá)186.11億歐元（同比增長(zhǎng)35%），凈利潤(rùn)為58.83億歐元，毛利率為52.7%。2021年全年新增訂單為262.40億歐元，其中一半來(lái)自于EUV光刻機(jī)。

溫彼得表示，ASML在2021年第四季度收到了一份TWINSCAN EXE:5000的訂單。自2018年以來(lái)，ASML已經(jīng)收到四份TWINSCAN EXE:5000的訂單。

據(jù)了解，EXE:5000主要面向的是3nm工藝，而第二代的0.55 NA EUV光刻機(jī)TWINSCAN EXE:5200將會(huì)被用于2nm工藝的生產(chǎn)。

021年出貨了42臺(tái)EUV光刻系統(tǒng)2021年ASML來(lái)自光刻系統(tǒng)方面的營(yíng)收為136.53億歐元，總共銷(xiāo)售了287臺(tái)光刻系統(tǒng)。

具體的銷(xiāo)量方面，EUV光刻系統(tǒng)42臺(tái)，貢獻(xiàn)了約63億歐元，銷(xiāo)售額占比高達(dá)46%；ArFi光刻系統(tǒng)81臺(tái)，銷(xiāo)售額占比36%；ArF光刻系統(tǒng)131臺(tái)，銷(xiāo)售額占比10%；i-Line光刻系統(tǒng)33臺(tái)，銷(xiāo)售額占比1%。

從銷(xiāo)售的光刻系統(tǒng)的最終用途來(lái)看，70%被用于邏輯半導(dǎo)體制程，30%被用于存儲(chǔ)芯片的制造。

從光刻系統(tǒng)最終出貨地來(lái)看，中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)貢獻(xiàn)的銷(xiāo)售額占比高達(dá)44%，韓國(guó)占比35%，中國(guó)大陸占比16%。

溫彼得表示：“2021年ASML的EUV出貨量增長(zhǎng)并不高，這主要是由于我們?cè)诘谌径刃嫉奈锪髦行暮凸?yīng)鏈問(wèn)題影響的結(jié)果。但這完全由EUV光刻機(jī)的安裝及升級(jí)等基礎(chǔ)收入補(bǔ)償了，特別是我們能夠向客戶(hù)提供的生產(chǎn)力升級(jí)。我們的客戶(hù)急需額外的容量，需求量很大。這部分的銷(xiāo)售額為15億歐元。在我們稱(chēng)之為生產(chǎn)力提升包的推動(dòng)下，安裝了大量選項(xiàng)，為客戶(hù)提供了額外的晶圓容量。”

DUV 業(yè)務(wù)方面，ASML表示，XT:860N 已于 2021 年底交付給其第一個(gè)客戶(hù)。這種 KrF 系統(tǒng)提供了更好的性能和更低的成本。2022年，隨著 NXT:870 的引入，ASML將把 KrF 添加到 NXT 平臺(tái)中，使其能夠在生產(chǎn)率和擁有成本方面邁出重要的一步，并在 ArFi 和 ArFDry 中構(gòu)建這個(gè)平臺(tái)上的現(xiàn)有經(jīng)驗(yàn)。

應(yīng)用業(yè)務(wù)方面，首款 eScan1100 多束檢測(cè)系統(tǒng)計(jì)劃在未來(lái)幾周內(nèi)交付，該系統(tǒng)是專(zhuān)為大批量生產(chǎn)設(shè)計(jì)的。由于采用了 25 束（5x5），預(yù)計(jì) eScan1100 與單一電子束檢測(cè)工具相比，可增加 15 倍的吞吐量，用于目標(biāo)在線(xiàn)缺陷檢測(cè)應(yīng)用。

由于EUV光刻系統(tǒng)中使用的極紫外光波長(zhǎng)（13nm）相比DUV 浸入式光刻系統(tǒng)（193 nm）有著顯著降低，多圖案 DUV 步驟可以用單次曝光 EUV 步驟代替。可以幫助芯片制造商繼續(xù)向7nm及以下更先進(jìn)制程工藝推進(jìn)的同時(shí)，進(jìn)一步提升效率和降低曝光成本。

目前，臺(tái)積電、三星、Intel等頭部的晶圓制造廠商也正在大力投資更先進(jìn)的3nm、2nm技術(shù)，以滿(mǎn)足高性能計(jì)算等先進(jìn)芯片需求。而3/2nm工藝的實(shí)現(xiàn)則需要依賴(lài)于ASML新一代的高數(shù)值孔徑 (High-NA) EUV光刻機(jī)EXE:5000系列。

ASML目前正在開(kāi)發(fā)當(dāng)中的高數(shù)值孔徑 (high-NA) EUV光刻機(jī)是基于0.33 數(shù)值孔徑透鏡的 EUV 光刻系統(tǒng)的迭代產(chǎn)品，其具有 0.55 數(shù)值孔徑的鏡頭，分辨率為 8 納米，而現(xiàn)有的0.33 數(shù)值孔徑透鏡的 EUV 光刻系統(tǒng)的分辨率為 13 納米，使得芯片制造商能夠生產(chǎn)3/2nm及以下更先進(jìn)制程的芯片，并且圖形曝光的成本更低、生產(chǎn)效率更高。

但是，0.55 NA EUV光刻系統(tǒng)造價(jià)相比第一代的EUV光刻機(jī)也更高。據(jù) KeyBanc 稱(chēng)，一臺(tái)0.55 NA EUV光刻系統(tǒng)的成本預(yù)計(jì)為3.186億美元，而目前正在出貨的EUV光刻系統(tǒng)則為1.534億美元。

值得注意的是，ASML總裁兼CEO溫彼得透露，在2021年第四季度，ASML獲得的價(jià)值為70.50億歐元的新增訂單當(dāng)中，0.55 NA EUV光刻系統(tǒng)和0.55 NA EUV光刻系統(tǒng)的訂單金額就達(dá)到了26億歐元。

溫彼得表示，ASML在2021年第四季度收到了一份TWINSCAN EXE:5000的訂單。自2018年以來(lái)，ASML已經(jīng)收到四份TWINSCAN EXE:5000的訂單。據(jù)了解，EXE:5000主要面向的是3nm工藝。而第二代的0.55 NA EUV光刻機(jī)TWINSCAN EXE:5200將會(huì)被用于2nm工藝的生產(chǎn)。

溫彼得透露，在2022年初，ASML已收到了下一代的TWINSCAN EXE:5200的第一份訂單，這標(biāo)志著ASML在引入 0.55 NA EUV光刻的道路上又邁出了一步。

根據(jù)ASML的路線(xiàn)圖，TWINSCAN EXE:5000將會(huì)在今年下半年出貨，每小時(shí)可生產(chǎn)185片晶圓。而TWINSCAN EXE:5000將會(huì)在2024年底出貨，每小時(shí)可廠商超過(guò)220片晶圓。

在2021年7月底的“Intel加速創(chuàng)新：制程工藝和封裝技術(shù)線(xiàn)上發(fā)布會(huì)”上，Intel已宣布將在2024年量產(chǎn)20A工藝（相當(dāng)于臺(tái)積電2nm工藝），并透露其將率先獲得業(yè)界第一臺(tái)High-NA EUV光刻機(jī)。ASML TWINSCAN EXE:5200光刻機(jī)的首份訂單正是來(lái)自于Intel。

ASML總裁兼首席技術(shù)官M(fèi)artin van den表示，Intel對(duì)ASML在High-NA EUV技術(shù)的遠(yuǎn)見(jiàn)和早期承諾證明了對(duì)摩爾定律的不懈追求。與目前的EUV系統(tǒng)相比，ASML的擴(kuò)展EUV路線(xiàn)圖以更低的成本、時(shí)間周期和架構(gòu)等方面提供了持續(xù)的改進(jìn)，這將推動(dòng)芯片行業(yè)未來(lái)十年發(fā)展的動(dòng)力所在。

對(duì)于Intel來(lái)說(shuō)，搶先獲得ASML TWINSCAN EXE:5200光刻機(jī)，也正是Intel篤定其制程工藝能夠超越臺(tái)積電、三星重回領(lǐng)先地位的關(guān)鍵。

不過(guò)，臺(tái)積電和三星此前應(yīng)該也在爭(zhēng)奪Hight NA EUV光刻機(jī)。去年10月初，三星在10月初初已宣布，將在2022年上半年量產(chǎn)3nm工藝，并計(jì)劃在2025年搶先臺(tái)積電量產(chǎn)2nm。

為此，有消息顯示，三星也在緊急搶購(gòu)一臺(tái)Hight NA EUV光刻機(jī)，并要求ASML直接拉到三星工廠內(nèi)進(jìn)行測(cè)試。

另外，臺(tái)積電在此前的法說(shuō)會(huì)上也對(duì)外，2025年臺(tái)積電2nm制程不論是密度或是效能，都將是最領(lǐng)先的技術(shù)。

今年1月3日，ASML位于德國(guó)柏林的一座工廠發(fā)生火災(zāi)，大火在當(dāng)晚被撲滅，沒(méi)有人員在火災(zāi)中受傷。

資料顯示，ASML德國(guó)柏林工廠是一座零部件工廠，主要生產(chǎn)晶圓臺(tái)、光罩吸盤(pán)和反射鏡模塊等DUV和EUV光刻機(jī)所需的零部件。

隨后，ASML在官網(wǎng)上表示，火災(zāi)后DUV光刻機(jī)零部件的生產(chǎn)部分中斷，但很快生產(chǎn)已經(jīng)恢復(fù)，預(yù)計(jì)他們將以一種不會(huì)影響DUV光刻機(jī)產(chǎn)量和收入計(jì)劃的方式進(jìn)行補(bǔ)救。另外，柏林工廠火災(zāi)還影響到了EUV光刻機(jī)一個(gè)零部件的生產(chǎn)區(qū)域，恢復(fù)計(jì)劃仍在進(jìn)行中，他們已決定采取相關(guān)的措施，將對(duì)EUV光刻機(jī)客戶(hù)、產(chǎn)出計(jì)劃及服務(wù)的潛在影響降到最低。

在此次的財(cái)報(bào)會(huì)議上，溫彼得表示，柏林工廠火災(zāi)在幾個(gè)小時(shí)內(nèi)就已被撲滅，但仍然有重大損失。對(duì)于DUV光刻機(jī)，雖然有一些初始干擾，但其認(rèn)為不會(huì)對(duì)2022年的產(chǎn)量產(chǎn)生任何影響。另外，EUV光刻機(jī)所需的晶圓鉗的生產(chǎn)受到了影響，這是一個(gè)非常復(fù)雜但非常重要的模塊。但通過(guò)我們的努力，相信能夠應(yīng)對(duì)這種情況，我們認(rèn)為不會(huì)看到對(duì)我們的EUV光刻機(jī)的2022年的產(chǎn)量生產(chǎn)大的影響。

ASML也公布2022年第一季財(cái)測(cè)，預(yù)估營(yíng)收凈額約為33億到35億歐元之間，毛利率約49%。ASML預(yù)計(jì)一季度研發(fā)成本約為7.6億歐元，SG&a成本約為2.1億歐元。

ASML總裁兼CEO溫彼得表示：“第一季度凈銷(xiāo)售額指導(dǎo)值較低的原因是大量快速發(fā)貨，使得約20億歐元的預(yù)計(jì)收入將從第一季度轉(zhuǎn)移到隨后的季度。而去年四季度快速發(fā)貨推遲到今年一季度確認(rèn)的金額約為3億歐元。”

“客戶(hù)對(duì)于光刻系統(tǒng)的需求超過(guò)了我們的生產(chǎn)能力所能滿(mǎn)足的范圍。終端市場(chǎng)的強(qiáng)勁需求，給我們的客戶(hù)帶來(lái)了增加晶圓產(chǎn)量的壓力。為了支持我們的客戶(hù)，我們?yōu)樗麄兲峁┝烁呱a(chǎn)率升級(jí)解決方案，并縮短了我們工廠的生產(chǎn)周期以交付更多的光刻系統(tǒng)。減少交付周期時(shí)間的一種方法是，通過(guò)快速裝運(yùn)過(guò)程，跳過(guò)我們工廠的一些測(cè)試。最終測(cè)試和正式驗(yàn)收將在客戶(hù)現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行，通常驗(yàn)收程序需要幾周的時(shí)間（有時(shí)三到四周）。這雖然將導(dǎo)致這些發(fā)貨的收入延遲確認(rèn)，直到客戶(hù)正式接受，但這確實(shí)為我們的客戶(hù)提供了更早獲得增加晶圓輸出能力的機(jī)會(huì)。”溫彼得進(jìn)一步解釋到。

對(duì)于2022全年的業(yè)績(jī)預(yù)期，ASML也比較樂(lè)觀的認(rèn)為會(huì)保持同比約20%左右的營(yíng)收增長(zhǎng)。

“2022年將是一個(gè)好年頭。與2021相比，我們預(yù)計(jì)增長(zhǎng)率約為20%。這是一個(gè)很好的數(shù)字，因?yàn)槟惚仨毧紤]到我們?cè)?022年年底前也會(huì)有一些‘快速發(fā)貨’，導(dǎo)致部分收入轉(zhuǎn)移到2023年確認(rèn)。我們目前認(rèn)為2020年年底大約有六個(gè)EUV系統(tǒng)將被快速裝運(yùn)發(fā)貨。如果將延遲確認(rèn)的收入加上，那么2022年的營(yíng)收將同比增長(zhǎng)25%左右。”溫彼得說(shuō)到。

對(duì)于2022年的EUV光刻機(jī)的出貨量，ASML預(yù)計(jì)將會(huì)達(dá)到55臺(tái)。正如起前面提到到的，其中約有6臺(tái)的收入將會(huì)推遲到2023年確認(rèn)。另外，預(yù)計(jì)2023年EUV光刻機(jī)的出貨量將增長(zhǎng)到60臺(tái)。

在DUV光刻機(jī)業(yè)務(wù)方面，ASML認(rèn)為，DUV光刻機(jī)的出貨2022年將會(huì)尤其強(qiáng)勁。因?yàn)樗婕傲怂行袠I(yè)，包括存儲(chǔ)和邏輯芯片制造。特別是芯片的持續(xù)短缺導(dǎo)致了對(duì)DUV光刻機(jī)的強(qiáng)烈需求。

溫彼得預(yù)測(cè)，“與2021年相比，2022年我們的DUV光刻機(jī)業(yè)務(wù)可能會(huì)有大約20%的增長(zhǎng)。”

另外，在安裝基礎(chǔ)選項(xiàng)方面，溫彼得也表示，2021年有一個(gè)非常強(qiáng)勁的增長(zhǎng)，客戶(hù)對(duì)于安裝基礎(chǔ)選項(xiàng)的需求增加了很多，以增加更多的晶圓產(chǎn)量，ASML仍然預(yù)計(jì)2022年這塊仍將增長(zhǎng)約10%。

總結(jié)

以上是生活随笔為你收集整理的单价超3亿美元！Intel拿下首批第二代High-NA EUV光刻机 2nm将抢先量产的全部?jī)?nèi)容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問(wèn)題。

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