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对决台积电2nm Intel的“1.8nm”工艺找到三大客户:2025年量产

發布時間:2023/12/6 综合教程 40 生活家
生活随笔 收集整理的這篇文章主要介紹了 对决台积电2nm Intel的“1.8nm”工艺找到三大客户:2025年量产 小編覺得挺不錯的,現在分享給大家,幫大家做個參考.

在先進工藝上,臺積電最近幾年風頭正勁,不過別忘了Intel依然是地球上制造工藝最先進的半導體公司之一,未來四年里他們要掌握五代CPU工藝,其中相當于1.8nm節點的18A工藝將在2025年量產。

去年3月份,Intel新上任的CEO基辛格宣布了IDM 2.0戰略,其中就包括大手筆投資新的晶圓廠,并快速升級CPU工藝,分別是Intel 7、Intel 4、Intel 3及Intel 20A、Intel 18A,其中前面三代工藝還是基于FinFET晶體管的,從Intel 4開始全面擁抱EUV光刻工藝。

20A、18A工藝中的A代表埃米,是首個進入埃米時代的工藝,差不多等效于其他廠商的2nm及1.8nm工藝,而且20A開始放棄FinFET晶體管,擁有兩項革命性技術,RibbonFET就是類似三星的GAA環繞柵極晶體管,PoerVia則首創取消晶圓前側的供電走線,改用后置供電,也可以優化信號傳輸。

20A工藝在2024年量產,2025年則會量產改進型的18A工藝,這次會首發下一代EUV光刻機,NA數值孔徑會從現在的0.33提升到0.55以上。

更重要的是,Intel的先進工藝未來不僅是自己用,還要對外提供代工服務,要跟臺積電搶市場。在今天的財報會議上,Intel CEO基辛格提到了18A工藝已經有三個客戶,而且是美國軍方主導的RAMP-C防御計劃中的,具體名單現在保密。

預計Intel在2025年量產18A工藝的時候,臺積電也會進入2nm節點,這也是臺積電工藝的一次重要升級,臺積電將在2nm節點推出Nanosheet/Nanowire的晶體管架構并采用新的材料。

總結

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