这些单晶XRD测试问题你了解吗?(二)
1.怎么看獨(dú)立可觀測(cè)點(diǎn)和衍射點(diǎn)分別是多少?
答:可以在后綴是.abs文件中查看。
2.沒有吸收校正文件,對(duì)后期發(fā)文章有影響嗎?
答:這個(gè)不是必要提交文件,發(fā)文章主要提交cif, checkcif文件。
3.一般晶體長(zhǎng)出來(lái),在光學(xué)顯微鏡看,顯微鏡調(diào)到多少合適?
答:這個(gè)沒有固定的,每個(gè)晶體大小不一樣,先調(diào)低倍,再慢慢往上調(diào)。
4.如果鍵長(zhǎng)超出了該有的范圍,會(huì)出現(xiàn)A類錯(cuò)誤。不知道如何解釋?
答:可以用指令DFIX,來(lái)限定原子間的距離。
5.精修的時(shí)候Size是怎么知道的?
答:通過(guò)單晶衍射儀,晶體在衍射環(huán)中的大小來(lái)預(yù)估的。
6.checkcif報(bào)告算是一個(gè)確認(rèn)解析正確無(wú)誤的可信依據(jù)嗎?沒有錯(cuò)誤在里面就行嗎?
答:對(duì)的,沒有嚴(yán)重的A和B類錯(cuò)誤,是可以發(fā)表的。
7.如果解出來(lái)的結(jié)構(gòu)有disorder作圖的時(shí)候就是那樣全部保留著作圖 ,還是刪掉低占有率的,然后再作圖啊?還有這個(gè)diamond出的圖感覺清晰度好像也不是那么清楚, 怎么把出圖的清晰度調(diào)高一些啊?
答:結(jié)構(gòu)中有無(wú)序disorder時(shí),把占有率低的一半原子刪掉,保留占有率高的一半。在Diamond軟件里有個(gè)Picture,選Layout,里面有可以調(diào)圖片大小和分辨率的。
8.合成出2到3mm大小的單晶,這個(gè)尺寸適合拿來(lái)單晶測(cè)試嗎?
答:這個(gè)尺寸大了,理想尺寸是0.3-0.5mm。但是過(guò)大的尺寸,我們可以通過(guò)刀來(lái)進(jìn)行切割后再測(cè)試。
9.diamond打開cif 顯示的是堆積圖,可以用cif 畫/顯示一個(gè)分子嗎?
答:可以的,有個(gè)Add atoms按鈕,可以添加自己想要的原子。
10.解完單晶后B類錯(cuò)誤的解釋要寫在文章哪個(gè)部分?解好的結(jié)構(gòu)怎么上傳到ccdc拿到自己晶體的號(hào)碼?
答:這個(gè)可以在cif文件最低端,加個(gè)Response回答一下原因,再重新check一下。CCDC號(hào)在CCDC官網(wǎng)上就可以申請(qǐng)。
11.MOF單晶培養(yǎng)的關(guān)鍵點(diǎn)和技巧有哪些?藥劑濃度大概多高合適?溶劑的選擇依據(jù)?
答:MOF類單晶大部分通過(guò)溶劑熱法來(lái)培養(yǎng),這個(gè)主要影響因素有配制的比例、設(shè)置的實(shí)驗(yàn)溫度、溶劑的選擇。藥劑濃度沒有推薦的,每個(gè)單晶有自己合適的比例,需要通過(guò)做不同組的實(shí)驗(yàn)去獲得。溶劑的選擇,應(yīng)盡量避免氯仿和四氯化碳之類含有重原子并且通常會(huì)在晶體中形成無(wú)序結(jié)構(gòu)的溶劑。
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總結(jié)
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