AMOLED 显示面板 Mura 缺陷
1、AMOLED 顯示面板結(jié)構(gòu)?
有機(jī)發(fā)光二極管(Organic ?Light ?Emitting Diode,OLED)是一種自發(fā)光技術(shù),如下圖 2-1 所示,其基本結(jié)構(gòu)由陽(yáng)極、陰極以及置于它們之間的多層有機(jī)薄膜材料組成。該有機(jī)材料的主要組成物質(zhì)是導(dǎo)電透明銦錫氧化物(ITO),其形成的多層薄膜包括空穴傳輸層、有機(jī)發(fā)光層和電子傳輸層。與 LCD 技術(shù)相比,OLED 不需要背光,如圖 1-1 所示,通過(guò)施加適當(dāng)?shù)碾妷?#xff0c;分別從陽(yáng)極和陰極經(jīng)過(guò)空穴傳輸層和電子傳輸層向有機(jī)發(fā)光層注入空穴和電子。空穴和電子在有機(jī)發(fā)光層內(nèi)部結(jié)合形成激子,之后發(fā)生電致發(fā)光。傳輸層材料、有機(jī)發(fā)光層材料和電極的選擇是決定 OLED 器件質(zhì)量的關(guān)鍵因素。?
? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 圖 1-1 OLED 結(jié)構(gòu)圖
OLED 大致分為被動(dòng)矩陣類型(PMOLED)和主動(dòng)矩陣類型(AMOLED)。PMOLED 的陽(yáng)極和陰極呈相互垂直的條狀分布。如圖 1-2 ?a)所示,陽(yáng)極條和陰極條重疊的部分是 PMOLED 的一個(gè)像素,用外加電路對(duì)像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的陽(yáng)極條和陰極條輸出電流,從而使這個(gè)像素點(diǎn)發(fā)光,且發(fā)光強(qiáng)度與施加的電流強(qiáng)弱相關(guān)。與被動(dòng)關(guān)系相比,AMOLED 具有更強(qiáng)的靈活性和控制性。如圖 2-2 b)所示,其由 OLED 像素矩陣組成,每個(gè) OLED 像素分別具有陽(yáng)極,陰極和夾在它們之間的有機(jī)材料層。然后用薄膜晶體管陣列控制到達(dá)每個(gè)像素的電流,使其能夠被激活并發(fā)光。通常,每個(gè)像素使用兩個(gè)晶體管,一個(gè)用于打開和關(guān)斷像素的電流,另一個(gè)用于提供恒定電流。這樣就免除了對(duì)強(qiáng)電流的需要。AMOLED 顯示面板工藝流程的基本要素是 TFT 背板技術(shù)。該技術(shù)可以在低溫(低于 150℃)條件下利用可折疊的塑料基板生產(chǎn)出有源矩陣背板。這使得 AMOLED 顯示面板具有柔韌性、可彎曲性,從而可以應(yīng)用于曲面屏電子產(chǎn)品的設(shè)計(jì)。無(wú)源矩陣使用集成電路控制沿每列或每行發(fā)送的電荷,然后再用復(fù)雜網(wǎng)格系統(tǒng)控制各個(gè)像素。這導(dǎo)致其速度很慢,而且不精確。而有源矩陣系統(tǒng)將薄膜晶體管(TFT)和電容器連接到每個(gè) OLED 上,當(dāng)激活行和列以訪問(wèn)像素時(shí),正確像素處的電容器可以在刷新周期之內(nèi)保留其電荷,從而允許更快和更精確的控制,而且所
需的能量消耗也非常小。?
? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 圖 1-2 AMOLED 與 PMOLED 結(jié)構(gòu)對(duì)比圖
2、AMOLED 顯示面板 Mura 缺陷的產(chǎn)生原因?
AMOLED 顯示面板的工藝制程主要分為背板段、前板段、和模組段。背板段主要是通過(guò)曝光、刻蝕等工藝形成用于制作 TFT 基板的低溫多晶硅膜(LTPS);前板段制程需要先對(duì) LTPS-TFT 基板做清洗、干燥、降溫等處理,然后將其放入真空室內(nèi)進(jìn)行各發(fā)光層和功能層的蒸鍍,隨后將偏光片貼附于面板;模組段制程主要對(duì)面板涂保護(hù)膠并固化、裝配驅(qū)動(dòng)板、完成外引線并進(jìn)行包裝入庫(kù)。制備過(guò)程中 對(duì)電性指標(biāo)的均一度以及工藝精細(xì)度 的極 高要求使得AMOLED 顯示面板在生產(chǎn)過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)許多缺陷,其中 Mura 缺陷占 95%。Mura缺陷的產(chǎn)生原因如下:?
(1)在真空室中進(jìn)行熱蒸鍍時(shí),為了方便控制基板上積淀材料的面積、形狀等特征,需要緊挨著基板放置一塊遮光板。但是,蒸鍍時(shí)的高溫環(huán)境會(huì)使遮光板發(fā)生細(xì)微偏移,導(dǎo)致基板上沉積的材料不均勻。因此會(huì)形成 Mura 缺陷。?
(2)射頻濺鍍法工藝流程中,不良的控制因素會(huì)導(dǎo)致所制造的氧化銦錫(ITO)基板表面出現(xiàn)凹凸不平的情況,從而出現(xiàn)突起物或尖端物質(zhì)。而且,高溫鍛燒和再結(jié)晶的過(guò)程也會(huì)在基板表面產(chǎn)生突起層,從而形成 Mura 缺陷。?
(3)AMOLED 制造通常使用低溫多晶硅(LTPS)技術(shù)。準(zhǔn)分子激光退火(ELA)是 LTPS 技術(shù)的重要過(guò)程。因此在 ELA 制造工藝中,退火室內(nèi)的氣壓不穩(wěn)定、光學(xué)系統(tǒng)引起的平行和掃描方向之間的干涉、CVD 膜的形成、平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)和振動(dòng)都可能引入大量的 Mura 缺陷。?此外,由于組裝期間無(wú)法絕對(duì)達(dá)到無(wú)塵環(huán)境,顯示面板的各傳輸層涂布不均勻或性能退化,玻璃基板有劃痕,開路和短路,工藝異常,差異薄膜厚度,CD 變化,圖案偏移,異物等,也都會(huì)引起 Mura 缺陷。如圖 2-3 所示為各種Mura 缺陷。?
? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?圖 1-3 ?各種 Mura 缺陷?
? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? a) ?污點(diǎn) ? b) ?線 ? c) ?暗團(tuán) ? d) ?凹陷 ? e) ?亮團(tuán) ? f) ?涂布不均
參考文獻(xiàn):
[1]孫玉鳳. AMOLED顯示面板Mura缺陷視覺(jué)檢測(cè)算法研究[D].哈爾濱工業(yè)大學(xué),2019.
?
?
?
?
?
總結(jié)
以上是生活随笔為你收集整理的AMOLED 显示面板 Mura 缺陷的全部?jī)?nèi)容,希望文章能夠幫你解決所遇到的問(wèn)題。
- 上一篇: 榆熙教育电商学院:拼多多为何做“百亿补贴
- 下一篇: 如何下载专利