1、AMOLED 顯示面板結(jié)構(gòu)?
有機發(fā)光二極管（Organic ?Light ?Emitting Diode，OLED）是一種自發(fā)光技術(shù)，如下圖 2-1 所示，其基本結(jié)構(gòu)由陽極、陰極以及置于它們之間的多層有機薄膜材料組成。該有機材料的主要組成物質(zhì)是導(dǎo)電透明銦錫氧化物（ITO），其形成的多層薄膜包括空穴傳輸層、有機發(fā)光層和電子傳輸層。與 LCD 技術(shù)相比，OLED 不需要背光，如圖 1-1 所示，通過施加適當(dāng)?shù)碾妷?#xff0c;分別從陽極和陰極經(jīng)過空穴傳輸層和電子傳輸層向有機發(fā)光層注入空穴和電子?？昭ê碗娮釉谟袡C發(fā)光層內(nèi)部結(jié)合形成激子，之后發(fā)生電致發(fā)光。傳輸層材料、有機發(fā)光層材料和電極的選擇是決定 OLED 器件質(zhì)量的關(guān)鍵因素。?

? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 圖 1-1 OLED 結(jié)構(gòu)圖

OLED 大致分為被動矩陣類型（PMOLED）和主動矩陣類型（AMOLED）。PMOLED 的陽極和陰極呈相互垂直的條狀分布。如圖 1-2 ?a)所示，陽極條和陰極條重疊的部分是 PMOLED 的一個像素，用外加電路對像素點對應(yīng)的陽極條和陰極條輸出電流，從而使這個像素點發(fā)光，且發(fā)光強度與施加的電流強弱相關(guān)。與被動關(guān)系相比，AMOLED 具有更強的靈活性和控制性。如圖 2-2 b)所示，其由 OLED 像素矩陣組成，每個 OLED 像素分別具有陽極，陰極和夾在它們之間的有機材料層。然后用薄膜晶體管陣列控制到達(dá)每個像素的電流，使其能夠被激活并發(fā)光。通常，每個像素使用兩個晶體管，一個用于打開和關(guān)斷像素的電流，另一個用于提供恒定電流。這樣就免除了對強電流的需要。AMOLED 顯示面板工藝流程的基本要素是 TFT 背板技術(shù)。該技術(shù)可以在低溫（低于 150℃）條件下利用可折疊的塑料基板生產(chǎn)出有源矩陣背板。這使得 AMOLED 顯示面板具有柔韌性、可彎曲性，從而可以應(yīng)用于曲面屏電子產(chǎn)品的設(shè)計。無源矩陣使用集成電路控制沿每列或每行發(fā)送的電荷，然后再用復(fù)雜網(wǎng)格系統(tǒng)控制各個像素。這導(dǎo)致其速度很慢，而且不精確。而有源矩陣系統(tǒng)將薄膜晶體管（TFT）和電容器連接到每個 OLED 上，當(dāng)激活行和列以訪問像素時，正確像素處的電容器可以在刷新周期之內(nèi)保留其電荷，從而允許更快和更精確的控制，而且所
需的能量消耗也非常小。?

? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 圖 1-2 AMOLED 與 PMOLED 結(jié)構(gòu)對比圖

2、AMOLED 顯示面板 Mura 缺陷的產(chǎn)生原因?

AMOLED 顯示面板的工藝制程主要分為背板段、前板段、和模組段。背板段主要是通過曝光、刻蝕等工藝形成用于制作 TFT 基板的低溫多晶硅膜（LTPS）；前板段制程需要先對 LTPS-TFT 基板做清洗、干燥、降溫等處理，然后將其放入真空室內(nèi)進(jìn)行各發(fā)光層和功能層的蒸鍍，隨后將偏光片貼附于面板；模組段制程主要對面板涂保護(hù)膠并固化、裝配驅(qū)動板、完成外引線并進(jìn)行包裝入庫。制備過程中 對電性指標(biāo)的均一度以及工藝精細(xì)度 的極 高要求使得AMOLED 顯示面板在生產(chǎn)過程中會出現(xiàn)許多缺陷，其中 Mura 缺陷占 95%。Mura缺陷的產(chǎn)生原因如下：?
（1）在真空室中進(jìn)行熱蒸鍍時，為了方便控制基板上積淀材料的面積、形狀等特征，需要緊挨著基板放置一塊遮光板。但是，蒸鍍時的高溫環(huán)境會使遮光板發(fā)生細(xì)微偏移，導(dǎo)致基板上沉積的材料不均勻。因此會形成 Mura 缺陷。?
（2）射頻濺鍍法工藝流程中，不良的控制因素會導(dǎo)致所制造的氧化銦錫（ITO）基板表面出現(xiàn)凹凸不平的情況，從而出現(xiàn)突起物或尖端物質(zhì)。而且，高溫鍛燒和再結(jié)晶的過程也會在基板表面產(chǎn)生突起層，從而形成 Mura 缺陷。?
（3）AMOLED 制造通常使用低溫多晶硅（LTPS）技術(shù)。準(zhǔn)分子激光退火（ELA）是 LTPS 技術(shù)的重要過程。因此在 ELA 制造工藝中，退火室內(nèi)的氣壓不穩(wěn)定、光學(xué)系統(tǒng)引起的平行和掃描方向之間的干涉、CVD 膜的形成、平臺的運動和振動都可能引入大量的 Mura 缺陷。?此外，由于組裝期間無法絕對達(dá)到無塵環(huán)境，顯示面板的各傳輸層涂布不均勻或性能退化，玻璃基板有劃痕，開路和短路，工藝異常，差異薄膜厚度，CD 變化，圖案偏移，異物等，也都會引起 Mura 缺陷。如圖 2-3 所示為各種Mura 缺陷。?

? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?圖 1-3 ?各種 Mura 缺陷?
? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? a) ?污點 ? b) ?線 ? c) ?暗團(tuán) ? d) ?凹陷 ? e) ?亮團(tuán) ? f) ?涂布不均

參考文獻(xiàn)：

[1]孫玉鳳. AMOLED顯示面板Mura缺陷視覺檢測算法研究[D].哈爾濱工業(yè)大學(xué),2019.

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總結(jié)

以上是生活随笔為你收集整理的AMOLED 显示面板 Mura 缺陷的全部內(nèi)容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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